本發(fā)明的目的是提供放射線敏感性組合物等,該組合物能夠形成化學增幅型正型抗蝕劑膜,該膜能有效感應活性光線或放射線、納米邊緣粗糙度和靈敏度優(yōu)異、可高精度且穩(wěn)定地形成微細圖案。本發(fā)明的組合物包含含酸解離性基團的聚合物(A)、和酸產(chǎn)生劑(B),所述含酸解離性基團的聚合物(A)為堿不溶性或難溶性且通過酸的作用成為堿易溶性,作為聚合物(A),包含含有式(1)的重復單元且以GPC測定的重均分子量為3000~100000的聚合物。式(1)中,R1表示氫原子或甲基,R2表示取代或無取代的碳原子數(shù)為1~20的直鏈狀或支鏈狀的1價烷基、碳原子數(shù)為3~25的脂環(huán)式基團或碳原子數(shù)為6~22的芳基,X表示取代或無取代的亞甲基或碳原子數(shù)2~25的取代或無取代的直鏈狀、支鏈狀或脂環(huán)式的烴基。
聲明:
“放射線敏感性組合物和聚合物以及單體” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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