1100℃迷你型箱式爐(1L) 154     

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KSL-1100X-S是一款1100℃迷你型箱式爐，專為冶金及材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。該設(shè)備采用電阻絲加熱元件和K型熱電偶，配備30段可編程溫度控制器，最高溫度可達(dá)1100℃，連續(xù)工作溫度為1000℃，控溫精度為±1℃。爐膛采用日制高質(zhì)量氧化鋁微晶體纖維材料，具有體積小、重量輕、溫場(chǎng)均衡、升溫速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)。其下拉式爐門(mén)結(jié)構(gòu)方便樣品的放置和取出，同時(shí)設(shè)有通氣接口，可用于氧氣或惰性氣體環(huán)境下的實(shí)驗(yàn)。此外，該設(shè)備還可放置在手套箱內(nèi)，在真空和可控氣氛條件下燒結(jié)樣品。

1200℃分體式微型箱式爐 233     

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KSL-1200X-J-F是一款通過(guò)CE認(rèn)證的1200℃分體式微型箱式爐，專為冶金及材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其爐膛尺寸為150mm×155mm×180mm（4.2L），采用高純氧化鋁纖維作為爐膛材料，表面涂有高溫氧化鋁涂層，能夠提高加熱效率、保持爐膛潔凈，并延長(zhǎng)設(shè)備使用壽命。該設(shè)備配備PID溫控系統(tǒng)，可設(shè)置30段升降溫程序，最高工作溫度可達(dá)1200℃。其獨(dú)特的分體式設(shè)計(jì)使其能夠與KF40饋通連接，特別適合在手套箱中使用。

1200℃小型水平真空坩堝爐(40L) 233     

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VBF-1200X-H8是一款通過(guò)CE認(rèn)證的1200℃小型水平真空坩堝爐，專為冶金及材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其加熱絲均勻分布在石英腔體外側(cè)，腔體尺寸為Φ200×340mm，水平安裝，配備專用水冷法蘭及針閥密封。使用雙旋片機(jī)械泵或分子泵機(jī)組時(shí)，真空度可達(dá)10?2～10?? Torr。該設(shè)備特別適合在真空或各種氣氛條件下對(duì)金屬、非金屬及其他化合物材料進(jìn)行燒結(jié)、融化和分析，是高等院校、科研院所及工礦企業(yè)實(shí)驗(yàn)室的理想設(shè)備。在冶金領(lǐng)域，VBF-1200X-H8可用于金屬材料的高溫?zé)Y(jié)、合金的熱處理以及金屬氧化物的還原等實(shí)驗(yàn)。

1200℃小型井式爐(9L) 235     

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VBF-1200X是一款1200℃小型立式箱式爐，專為冶金及材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。該設(shè)備采用進(jìn)口電阻絲作為加熱元件，配備K型熱電偶和30段可編程溫度控制器，能夠?qū)崿F(xiàn)精確的溫度控制。其上開(kāi)式爐門(mén)結(jié)構(gòu)方便樣品的放置和取出。該爐具有體積小、重量輕、溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫度速率快以及節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)，特別適合高校、科研院所和工礦企業(yè)進(jìn)行高溫?zé)Y(jié)、金屬退火及質(zhì)量檢測(cè)等實(shí)驗(yàn)。在冶金領(lǐng)域，VBF-1200X可用于研究金屬材料的熱處理工藝、相變行為以及合金的微觀結(jié)構(gòu)優(yōu)化。

1600℃實(shí)驗(yàn)型微波箱式爐 133     

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KSL-1600X-MW6是一款1600℃的實(shí)驗(yàn)型微波箱式爐，專為快速加熱和燒結(jié)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)，加熱速率可達(dá)60℃/min。該設(shè)備適用于電子陶瓷、磁性材料、鋰離子電池正極材料及其他無(wú)機(jī)氧化物粉體的燒結(jié)制備。在冶金領(lǐng)域，KSL-1600X-MW6可用于研究金屬氧化物的還原、金屬粉末的燒結(jié)以及新型合金材料的開(kāi)發(fā)，其快速加熱特性能夠顯著提高實(shí)驗(yàn)效率，為材料的高溫合成和性能優(yōu)化提供重要支持。

1800℃大型箱式爐 232     

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KSL-1800X-GX是一款專為冶金及材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)的1800℃大型箱式爐，采用下裝載方式進(jìn)料，裝載盤(pán)承重可達(dá)300kg，能夠?qū)Υ笈繕悠吩诳諝饣蜓鯕猸h(huán)境下進(jìn)行熱處理。該設(shè)備具有雙層殼體結(jié)構(gòu)并帶有風(fēng)冷系統(tǒng)，保證殼體表面溫度不過(guò)高。其爐膛采用高純氧化鋁纖維材料，耐火度可達(dá)2200℃，加熱元件為硅鉬棒。在冶金領(lǐng)域，KSL-1800X-GX可用于金屬材料的高溫?zé)Y(jié)、退火、回火等熱處理工藝，特別適合對(duì)大型工件或大批量樣品進(jìn)行處理。

1100℃電動(dòng)升降立式爐 146     

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VBF-1200X-E8是一款通過(guò)CE認(rèn)證的1100℃可升降立式氣氛管式爐，專為真空或各種氣氛條件下的熱處理設(shè)計(jì)。其石英腔體尺寸為Φ200×340mm，加熱絲分布在腔體外側(cè)，底部配備升降臺(tái)，可自由升降，采用SS水冷法蘭和針閥密封。使用雙旋片機(jī)械泵或分子泵機(jī)組時(shí)，真空度可達(dá)10?2～10?? Torr。該設(shè)備特別適合對(duì)6英寸以下的樣品進(jìn)行熱處理，廣泛應(yīng)用于冶金領(lǐng)域，例如對(duì)金屬材料進(jìn)行退火、氧化還原處理等，能夠滿足多種材料在高溫環(huán)境下的實(shí)驗(yàn)需求。

1200℃箱式氣氛爐 238     

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KSL-1200X-H2是一款通過(guò)CE認(rèn)證和TUV/UL認(rèn)證的1200℃箱式氣氛爐，專為氫氣環(huán)境下的熱處理設(shè)計(jì)。其爐腔采用五面加熱設(shè)計(jì)，確保溫場(chǎng)均勻，最高溫度可達(dá)1200℃，連續(xù)工作溫度為1100℃。該設(shè)備配備Kathal公司的Fe-Cr-Al合金加熱元件，爐膛尺寸為400×400×400mm，具有真空密封和水冷系統(tǒng)，確保操作安全。爐頂安裝有氫氣自動(dòng)點(diǎn)火裝置，可自動(dòng)點(diǎn)燃排除的氫氣，保障使用安全。此外，該設(shè)備還可在惰性或氧氣環(huán)境下對(duì)材料進(jìn)行熱處理，特別適合于熒光粉和鈦合金等材料的熱處理。

1200℃帶有溫度校準(zhǔn)系統(tǒng)的開(kāi)啟式管式爐 143     

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OTF-1200X-S50-LVT是一款通過(guò)CE認(rèn)證的小型開(kāi)啟式管式爐，最高溫度可達(dá)1200℃，適用于冶金及材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)。該設(shè)備配備精密的真空測(cè)試儀表、真空泵和OMEGA測(cè)溫儀表，能夠精確測(cè)量燒結(jié)樣品的實(shí)際溫度。其控溫儀表可設(shè)置30段升降溫程序，控溫精度為±1℃，確保實(shí)驗(yàn)過(guò)程的精確控制。在冶金領(lǐng)域，OTF-1200X-S50-LVT可用于金屬材料的高溫真空處理、合金的熱處理以及材料在不同氣氛下的性能研究，為開(kāi)發(fā)高性能金屬材料提供重要的實(shí)驗(yàn)支持。

氣體可流動(dòng)高溫高壓管式爐 132     

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OTF-1200X80-HPV-III-GF是一款專為冶金及材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)的高溫高壓管式爐，爐體配備三個(gè)獨(dú)立溫區(qū)，能夠?qū)崿F(xiàn)精確的溫度控制。該設(shè)備配備氣體控制柜，可在升降溫過(guò)程中保持爐管內(nèi)氣壓恒定，特別適用于氧化物的處理，能夠維持穩(wěn)定的氧分壓。爐管采用高溫鎳基合金鋼制作，最高耐溫可達(dá)1100℃，特別適合對(duì)氧化物超導(dǎo)線和氧化物陶瓷進(jìn)行熱處理。這種設(shè)計(jì)使其在冶金領(lǐng)域中可用于研究氧化物材料的高溫合成、熱處理及性能優(yōu)化，為開(kāi)發(fā)高性能陶瓷材料和超導(dǎo)材料提供重要的實(shí)驗(yàn)支持。

800℃超高真空管式爐 157     

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OTF-1200X-60HV是一款通過(guò)CE認(rèn)證的800℃超高真空管式爐，專為冶金及材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其爐管采用直徑60mm的SS-310S不銹鋼管，法蘭接口為KF25接口，采用CF法蘭，真空度可達(dá)10?? Torr。該設(shè)備配備PID 30段程序化控溫系統(tǒng)，控溫精度為±1℃，能夠滿足高溫真空環(huán)境下的精確控溫需求。在冶金領(lǐng)域，OTF-1200X-60HV可用于金屬材料的高溫真空處理，例如退火、氧化還原反應(yīng)等，有助于研究材料在極端條件下的性能變化。

磁場(chǎng)真空退火爐 142     

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GSL-1200X-MH4是一款專為冶金及磁性材料研究設(shè)計(jì)的磁場(chǎng)真空退火爐，最高溫度可達(dá)1200℃。該設(shè)備配備水冷層和真空絕緣層，能夠在磁場(chǎng)中對(duì)磁性材料進(jìn)行退火處理，顯著提升材料的磁性能。其獨(dú)特的設(shè)計(jì)使其在冶金領(lǐng)域中可用于研究磁性合金的退火工藝、優(yōu)化材料的磁性能和微觀結(jié)構(gòu)，為高性能磁性材料的開(kāi)發(fā)提供重要的實(shí)驗(yàn)支持。

熱重分析真空氣氛管式爐 126     

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OTF-X-TGA是一款具有TGA熱重分析功能的立式管式爐，最高溫度可達(dá)1700℃（可定制），特別適用于冶金及材料科學(xué)中的高溫實(shí)驗(yàn)。與傳統(tǒng)TGA裝置相比，該設(shè)備可裝載超過(guò)100g的樣品，提供更準(zhǔn)確的工業(yè)級(jí)實(shí)驗(yàn)結(jié)果。它能夠在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下（包括H?環(huán)境）進(jìn)行熱重實(shí)驗(yàn)，研究材料加工過(guò)程中的相變。此外，OTF-X-TGA還可連接氣體分析裝置，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)加熱過(guò)程中氣體成分和重量的變化。這種功能對(duì)于冶金領(lǐng)域中研究金屬材料的氧化、還原過(guò)程以及合金的相變行為具有重要意義。

1700℃帶鉸鏈?zhǔn)椒ㄌm管式爐 260     

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GSL-1700X-HNG是一款通過(guò)CE認(rèn)證的1700℃高溫管式爐，專為冶金及材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其爐管采用高純剛玉材質(zhì)，具有優(yōu)異的高溫穩(wěn)定性和抗腐蝕性，最高溫度可達(dá)1700℃，特別適合用于高溫?zé)Y(jié)各種金屬、合金及陶瓷材料。設(shè)備配備折疊式法蘭，使放樣和取樣更加便捷，同時(shí)采用30段升降溫程序控溫，控溫精度為±1℃，能夠滿足復(fù)雜的冶金工藝需求，為高性能材料的開(kāi)發(fā)和研究提供可靠的實(shí)驗(yàn)支持。

1100℃Φ50管式高壓爐 139     

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OTF-1200X-60UV是一款通過(guò)CE認(rèn)證的高溫高壓管式爐，專為冶金及材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其爐管采用鎳基合金鋼管，具有優(yōu)異的抗氧化性能，可在高溫狀態(tài)下通入氧氣和水蒸氣，最高溫度可達(dá)1100℃，最大真空度可達(dá)10?? Torr。這種設(shè)計(jì)使其特別適合用于冶金領(lǐng)域中的高溫氧化實(shí)驗(yàn)、合金熱處理以及材料在極端條件下的性能研究，為開(kāi)發(fā)高性能金屬材料和復(fù)合材料提供可靠的實(shí)驗(yàn)支持。

1700℃小型4通道管式爐 338     

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GSL-1700X-MGI-4是一款專為高通量熱處理實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)的小型4通道管式爐，爐管直徑為Φ25mm，最高溫度可達(dá)1700℃。該設(shè)備特別適用于合金和陶瓷的熱處理，能夠高效完成多種材料的高溫實(shí)驗(yàn)。其多通道設(shè)計(jì)可同時(shí)處理多個(gè)樣品，顯著提高實(shí)驗(yàn)效率，是材料基因計(jì)劃中探索材料相圖和優(yōu)化合金性能的理想工具。在冶金領(lǐng)域，該設(shè)備可用于研究合金的熱處理工藝、相變行為以及陶瓷材料的燒結(jié)特性，為高性能材料的研發(fā)提供重要支持。

1100℃ 十溫區(qū)高壓管式爐 238     

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OTF-1200X-X-85GF是一款專為高溫高壓材料合成設(shè)計(jì)的1100℃十溫區(qū)管式爐，爐管采用Ni基合金鋼制作，能夠在氧或惰性氣體環(huán)境下承受高溫高壓（最高溫度1000℃）。該設(shè)備配備壓力和氣體流量控制系統(tǒng)，確保升溫和降溫過(guò)程中爐管內(nèi)壓力穩(wěn)定。其獨(dú)特的十溫區(qū)設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)精確的溫度控制，特別適用于制備Fe基超導(dǎo)材料和新一代氧化物陶瓷材料。在冶金領(lǐng)域，該設(shè)備可用于研究新型材料的高溫合成機(jī)制和性能優(yōu)化，為高性能材料的開(kāi)發(fā)提供有力支持。

1100℃三溫區(qū)高壓高真空管式爐 126     

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OTF-1200X-80-HPV-III-GF是一款1100℃三溫區(qū)高壓高真空管式爐，專為高溫高壓及高真空條件下的冶金實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其爐管采用鎳基合金鋼制作，具有優(yōu)異的耐高溫和耐高壓性能，最高工作溫度可達(dá)1100℃，在此溫度下可承受的最大壓力為4MPa。三個(gè)獨(dú)立控制的加熱區(qū)能夠?qū)崿F(xiàn)精確的溫度控制，滿足復(fù)雜的冶金工藝需求。該設(shè)備適用于金屬材料的高溫合成、熱處理以及在高真空或高壓氣氛下的性能研究，為冶金領(lǐng)域提供了一個(gè)高效、可靠的實(shí)驗(yàn)平臺(tái)。

帶有光學(xué)窗口的高溫高壓爐 137     

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OTF-1200X-HP-III-W是一款帶有石英窗口的高溫高壓爐，專為高溫高壓環(huán)境下的光學(xué)氣體分析實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其爐管采用高溫鎳基合金鋼制作，具有優(yōu)異的耐高溫和抗氧化性能，最高工作溫度可達(dá)1100℃。兩端法蘭上安裝的石英窗口能夠允許各種波長(zhǎng)的光通過(guò)整個(gè)爐管，便于實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)實(shí)驗(yàn)過(guò)程中的光學(xué)變化。這種設(shè)計(jì)特別適合冶金領(lǐng)域中對(duì)金屬材料在高溫高壓條件下的反應(yīng)過(guò)程進(jìn)行光學(xué)分析，為研究材料的相變、氧化還原行為等提供重要支持。

1100℃雙溫區(qū)立式高溫高壓爐 128     

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OTF-1200X-II-HPV是一款1100℃雙溫區(qū)立式高溫高壓爐，專為冶金領(lǐng)域設(shè)計(jì)。其爐管采用鎳基合金鋼管制作，具有高蠕變強(qiáng)度和抗氧化性，可承受最高溫度1100℃，在此溫度下最大壓力為3MPa。該設(shè)備特別適合在高壓氧環(huán)境下對(duì)金屬樣品進(jìn)行熱處理，也可用于水浴法制備材料。法蘭上安裝的電磁閥可在壓力超過(guò)設(shè)定值時(shí)自動(dòng)排氣，確保實(shí)驗(yàn)安全。其雙溫區(qū)設(shè)計(jì)能夠滿足復(fù)雜的冶金工藝需求，為金屬材料的高溫高壓研究提供可靠的實(shí)驗(yàn)平臺(tái)。

1600℃高溫高壓燒結(jié)爐 237     

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GSL-1600-HP是一款專為冶金領(lǐng)域設(shè)計(jì)的高溫高壓氣氛燒結(jié)爐，最高溫度可達(dá)1600℃，最高壓力可達(dá)10MPa，能夠滿足高溫高壓下材料的燒結(jié)需求。其大型爐腔和高壓力設(shè)計(jì)使其特別適合用于燒結(jié)高性能金屬陶瓷、硬質(zhì)合金等材料，為冶金研究和生產(chǎn)提供可靠的高溫高壓環(huán)境，是開(kāi)發(fā)新型冶金材料和優(yōu)化燒結(jié)工藝的理想設(shè)備。

氫爆爐 267     

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OTF-1200X-V-H4是一款符合UL/TUV標(biāo)準(zhǔn)的氫氣管式爐，專為冶金領(lǐng)域中的磁性材料氫爆處理及氫氣環(huán)境下的熱處理設(shè)計(jì)。該設(shè)備配備5個(gè)獨(dú)立溫控系統(tǒng)的溫區(qū)，爐管采用310不銹鋼材質(zhì)，尺寸為Φ100mm×1500mm，能夠滿足多種材料的高溫處理需求。此外，設(shè)備內(nèi)置3M氫氣探測(cè)器，一旦檢測(cè)到氫氣泄漏，將自動(dòng)關(guān)閉進(jìn)氣閥和出氣閥，確保實(shí)驗(yàn)過(guò)程的安全。其最高溫度可達(dá)1200℃，適用于對(duì)氧敏感的金屬材料和磁性材料的高溫處理，是高校、科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行材料研究和開(kāi)發(fā)的理想設(shè)備。

10英寸氫氣管式爐 214     

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OTF-1200X-III-H8是一款符合UL/TUV標(biāo)準(zhǔn)的10英寸氫氣管式爐，專為冶金領(lǐng)域中的Ti合金退火和對(duì)氧敏感材料的熱處理設(shè)計(jì)。其爐管采用NiCrAl合金材質(zhì)，具有優(yōu)異的耐高溫和耐腐蝕性能，爐體設(shè)計(jì)有3個(gè)加熱區(qū)，最高溫度可達(dá)1250℃。該設(shè)備能夠在高真空或氫氣環(huán)境下進(jìn)行熱處理，特別適用于對(duì)材料微觀結(jié)構(gòu)和性能有嚴(yán)格要求的冶金實(shí)驗(yàn)，為高性能金屬材料的研發(fā)和生產(chǎn)提供可靠的高溫處理解決方案。

大面積雙管石墨烯生長(zhǎng)爐 236     

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GSL-1100X-III-D11是一款專為大面積材料生長(zhǎng)設(shè)計(jì)的三溫區(qū)大型雙管爐，最高溫度可達(dá)1100℃。其獨(dú)特的雙管設(shè)計(jì)通過(guò)CVD方法在箔材上實(shí)現(xiàn)大面積（約7000cm2）材料生長(zhǎng)，箔材纏繞在內(nèi)管外壁上，送管裝置可輕松將內(nèi)管送入或取出外管。該設(shè)備不僅適合大面積生長(zhǎng)石墨烯和柔性電極材料，還可用于冶金領(lǐng)域中大面積薄膜材料的制備和研究，為開(kāi)發(fā)高性能復(fù)合材料和新型電極材料提供有力支持。

900℃ 雙溫區(qū)RTP爐 235     

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OTF-1200X-IR-IISL是一款900℃雙溫區(qū)紅外加熱快速熱處理爐，專為冶金及材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其爐管直徑為4英寸，樣品臺(tái)滑軌周圍嵌有可伸縮波紋管，可在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下實(shí)現(xiàn)樣品的快速移動(dòng)。該設(shè)備最大升溫速率達(dá)到50℃/s，最大冷卻速率達(dá)到10℃/s，能夠高效完成快速熱處理任務(wù)。此外，它還可通過(guò)HPCVD方法生長(zhǎng)二維晶體，一個(gè)加熱區(qū)用于蒸發(fā)固體原料，另一個(gè)加熱區(qū)用于樣品沉積，特別適用于冶金領(lǐng)域中二維材料的生長(zhǎng)和金屬薄膜的制備。

1200℃坩堝可移動(dòng)型管式爐 227     

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OTF-1200X-S-HPCVD是一款1200℃小型開(kāi)啟式管式爐，專為冶金及材料合成實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其爐管直徑為50mm，配備步進(jìn)電機(jī)控制坩堝在爐管內(nèi)的移動(dòng)，能夠?qū)崿F(xiàn)精確的溫度控制和材料處理。這種設(shè)計(jì)特別適合用于冶金領(lǐng)域中的材料蒸發(fā)、升華以及薄膜沉積等實(shí)驗(yàn)，可有效控制材料的生長(zhǎng)過(guò)程和微觀結(jié)構(gòu)，為研究高性能金屬材料和復(fù)合材料提供重要的實(shí)驗(yàn)支持。

900℃帶3路浮子混氣RTP管式爐 136     

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RTP-1000-LV3C是一款900℃的快速熱處理（RTP）管式爐，專為半導(dǎo)體基片、太陽(yáng)能電池及其他樣品（尺寸可達(dá)3英寸）的退火工藝設(shè)計(jì)。該設(shè)備配備三路浮子流量計(jì)和機(jī)械泵，真空度可達(dá)10?3 Torr。采用9kW紅外燈加熱，最快升溫速度可達(dá)100℃/秒，配備30段精確溫度控制，精度為±1℃。此外，設(shè)備還配有RS485接口和控制軟件，可通過(guò)計(jì)算機(jī)控制運(yùn)行并顯示溫度曲線。其安裝尺寸為600mm×600mm×597mm，重量為210lbs。在冶金領(lǐng)域，該設(shè)備可用于快速熱處理金屬材料，優(yōu)化材料的微觀結(jié)構(gòu)和性能。

1100℃快速熱處理爐 225     

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GSL-1100X-RTP50是一款通過(guò)CE認(rèn)證的1100℃快速熱處理爐，專為高效熱處理實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)，特別適用于冶金領(lǐng)域。其配備50mm外徑×44mm內(nèi)徑×304.8mm長(zhǎng)度的高純石英管（單端封口），最高工作溫度可達(dá)1100℃。右側(cè)法蘭處安裝有滑軌，可手動(dòng)移動(dòng)爐管，實(shí)現(xiàn)快速加熱和冷卻。通過(guò)預(yù)熱爐子并快速插入爐管，可實(shí)現(xiàn)最快加熱；樣品加熱后移出爐管進(jìn)行強(qiáng)冷，冷卻速率在真空或惰性氣體環(huán)境下可達(dá)10℃/s。這種快速升降溫能力使其成為研究金屬材料熱處理工藝、相變行為及快速結(jié)晶的理想設(shè)備，尤其適合高校、科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行低成本、高效的材料實(shí)驗(yàn)。

1200℃小型滑軌RTP爐 225     

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OTF-1200X-50S-SL是一款通過(guò)CE認(rèn)證的1200℃小型滑軌快速熱處理（RTP）爐，專為高效熱處理實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其配備外徑50mm、長(zhǎng)度1000mm的石英管，爐底安裝滑軌，可實(shí)現(xiàn)快速加熱和冷卻，最大升溫速率為100℃/min，真空或惰性氣體環(huán)境下的冷卻速率可達(dá)15℃/s。這種快速升降溫能力使其在冶金領(lǐng)域中可用于研究金屬材料的相變、熱處理工藝優(yōu)化以及快速結(jié)晶等實(shí)驗(yàn)，是高校、科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行材料研究和開(kāi)發(fā)的理想設(shè)備。

1200℃小型雙爐體滑動(dòng)管式爐 125     

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OTF-1200X-S2-50SL是一款小型雙爐體滑動(dòng)管式爐，專為冶金領(lǐng)域中的材料蒸發(fā)/升華和薄膜沉積實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其配備Φ50×1400mm的石英管和不銹鋼密封法蘭，最高工作溫度可達(dá)1200℃。兩個(gè)爐體可在滑軌上滑動(dòng)，實(shí)現(xiàn)快速加熱（最大升溫速率100℃/min）和冷卻，顯著提高實(shí)驗(yàn)效率。此外，該設(shè)備還可選配電動(dòng)滑軌、質(zhì)量流量計(jì)（MFC）控制的供氣系統(tǒng)和等離子射頻電源，用于搭建TCVD系統(tǒng)，滿足更復(fù)雜的材料合成和薄膜制備需求。