10英寸氫氣管式爐 235     

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OTF-1200X-III-H8是一款符合UL/TUV標(biāo)準(zhǔn)的10英寸氫氣管式爐，專為冶金領(lǐng)域中的Ti合金退火和對氧敏感材料的熱處理設(shè)計。其爐管采用NiCrAl合金材質(zhì)，具有優(yōu)異的耐高溫和耐腐蝕性能，爐體設(shè)計有3個加熱區(qū)，最高溫度可達(dá)1250℃。該設(shè)備能夠在高真空或氫氣環(huán)境下進(jìn)行熱處理，特別適用于對材料微觀結(jié)構(gòu)和性能有嚴(yán)格要求的冶金實驗，為高性能金屬材料的研發(fā)和生產(chǎn)提供可靠的高溫處理解決方案。

大面積雙管石墨烯生長爐 261     

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GSL-1100X-III-D11是一款專為大面積材料生長設(shè)計的三溫區(qū)大型雙管爐，最高溫度可達(dá)1100℃。其獨特的雙管設(shè)計通過CVD方法在箔材上實現(xiàn)大面積（約7000cm2）材料生長，箔材纏繞在內(nèi)管外壁上，送管裝置可輕松將內(nèi)管送入或取出外管。該設(shè)備不僅適合大面積生長石墨烯和柔性電極材料，還可用于冶金領(lǐng)域中大面積薄膜材料的制備和研究，為開發(fā)高性能復(fù)合材料和新型電極材料提供有力支持。

900℃ 雙溫區(qū)RTP爐 253     

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OTF-1200X-IR-IISL是一款900℃雙溫區(qū)紅外加熱快速熱處理爐，專為冶金及材料科學(xué)實驗設(shè)計。其爐管直徑為4英寸，樣品臺滑軌周圍嵌有可伸縮波紋管，可在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下實現(xiàn)樣品的快速移動。該設(shè)備最大升溫速率達(dá)到50℃/s，最大冷卻速率達(dá)到10℃/s，能夠高效完成快速熱處理任務(wù)。此外，它還可通過HPCVD方法生長二維晶體，一個加熱區(qū)用于蒸發(fā)固體原料，另一個加熱區(qū)用于樣品沉積，特別適用于冶金領(lǐng)域中二維材料的生長和金屬薄膜的制備。

1200℃坩堝可移動型管式爐 252     

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OTF-1200X-S-HPCVD是一款1200℃小型開啟式管式爐，專為冶金及材料合成實驗設(shè)計。其爐管直徑為50mm，配備步進(jìn)電機(jī)控制坩堝在爐管內(nèi)的移動，能夠?qū)崿F(xiàn)精確的溫度控制和材料處理。這種設(shè)計特別適合用于冶金領(lǐng)域中的材料蒸發(fā)、升華以及薄膜沉積等實驗，可有效控制材料的生長過程和微觀結(jié)構(gòu)，為研究高性能金屬材料和復(fù)合材料提供重要的實驗支持。

900℃帶3路浮子混氣RTP管式爐 162     

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RTP-1000-LV3C是一款900℃的快速熱處理（RTP）管式爐，專為半導(dǎo)體基片、太陽能電池及其他樣品（尺寸可達(dá)3英寸）的退火工藝設(shè)計。該設(shè)備配備三路浮子流量計和機(jī)械泵，真空度可達(dá)10?3 Torr。采用9kW紅外燈加熱，最快升溫速度可達(dá)100℃/秒，配備30段精確溫度控制，精度為±1℃。此外，設(shè)備還配有RS485接口和控制軟件，可通過計算機(jī)控制運行并顯示溫度曲線。其安裝尺寸為600mm×600mm×597mm，重量為210lbs。在冶金領(lǐng)域，該設(shè)備可用于快速熱處理金屬材料，優(yōu)化材料的微觀結(jié)構(gòu)和性能。

1100℃快速熱處理爐 246     

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GSL-1100X-RTP50是一款通過CE認(rèn)證的1100℃快速熱處理爐，專為高效熱處理實驗設(shè)計，特別適用于冶金領(lǐng)域。其配備50mm外徑×44mm內(nèi)徑×304.8mm長度的高純石英管（單端封口），最高工作溫度可達(dá)1100℃。右側(cè)法蘭處安裝有滑軌，可手動移動爐管，實現(xiàn)快速加熱和冷卻。通過預(yù)熱爐子并快速插入爐管，可實現(xiàn)最快加熱；樣品加熱后移出爐管進(jìn)行強冷，冷卻速率在真空或惰性氣體環(huán)境下可達(dá)10℃/s。這種快速升降溫能力使其成為研究金屬材料熱處理工藝、相變行為及快速結(jié)晶的理想設(shè)備，尤其適合高校、科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)實驗室進(jìn)行低成本、高效的材料實驗。

1200℃小型滑軌RTP爐 248     

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OTF-1200X-50S-SL是一款通過CE認(rèn)證的1200℃小型滑軌快速熱處理（RTP）爐，專為高效熱處理實驗設(shè)計。其配備外徑50mm、長度1000mm的石英管，爐底安裝滑軌，可實現(xiàn)快速加熱和冷卻，最大升溫速率為100℃/min，真空或惰性氣體環(huán)境下的冷卻速率可達(dá)15℃/s。這種快速升降溫能力使其在冶金領(lǐng)域中可用于研究金屬材料的相變、熱處理工藝優(yōu)化以及快速結(jié)晶等實驗，是高校、科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)實驗室進(jìn)行材料研究和開發(fā)的理想設(shè)備。

1200℃小型雙爐體滑動管式爐 149     

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OTF-1200X-S2-50SL是一款小型雙爐體滑動管式爐，專為冶金領(lǐng)域中的材料蒸發(fā)/升華和薄膜沉積實驗設(shè)計。其配備Φ50×1400mm的石英管和不銹鋼密封法蘭，最高工作溫度可達(dá)1200℃。兩個爐體可在滑軌上滑動，實現(xiàn)快速加熱（最大升溫速率100℃/min）和冷卻，顯著提高實驗效率。此外，該設(shè)備還可選配電動滑軌、質(zhì)量流量計（MFC）控制的供氣系統(tǒng)和等離子射頻電源，用于搭建TCVD系統(tǒng)，滿足更復(fù)雜的材料合成和薄膜制備需求。

1200℃三溫區(qū)滑軌爐 141     

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OTF-1200X-III-80SL是一款通過CE認(rèn)證的1200℃三溫區(qū)滑軌式管式爐，專為快速熱處理實驗設(shè)計。其配備直徑80mm、長度94mm的石英管和法蘭，爐底安裝滑軌，支持手動滑動操作。該設(shè)備加熱和冷卻速率最高可達(dá)100℃/min，在真空或惰性氣體環(huán)境下可實現(xiàn)10℃/s的快速升降溫，能夠顯著提高實驗效率并降低能耗。在冶金領(lǐng)域，該爐可用于快速熱處理金屬材料，研究材料在高溫下的相變和微觀結(jié)構(gòu)變化，是高校、科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)實驗室進(jìn)行材料研究和開發(fā)的理想選擇。

1200℃小型坩堝移動管式爐 253     

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OTF-1200X-S-DVD是一款小型坩堝移動管式爐，專為直接蒸發(fā)沉積和快速熱處理實驗設(shè)計，尤其適用于二維材料的生長。其爐管直徑為50mm，最高工作溫度可達(dá)1200℃，通過磁鐵推動坩堝移動，實現(xiàn)精確的材料沉積和熱處理。在冶金領(lǐng)域，該設(shè)備可用于研究二維材料的生長機(jī)制及其在高溫環(huán)境下的性能表現(xiàn)，為開發(fā)新型二維材料及其在冶金中的應(yīng)用提供重要支持。

1600℃水平式閃燒爐 146     

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GSL-1600X-FS3KW是一款1600℃水平式閃燒爐，專為快速燒結(jié)陶瓷材料而設(shè)計，配備3KW可編程交流電源，可通過電極法蘭將正負(fù)極電極絲引入剛玉樣品夾具，施加電場實現(xiàn)閃燒工藝。其最高溫度可達(dá)1600℃，采用硅鉬棒加熱元件，加熱區(qū)長度為290mm，推薦升溫速率為≤10℃/min。相較于傳統(tǒng)燒結(jié)工藝，該設(shè)備具有超快速、節(jié)能且有利于制備細(xì)晶化陶瓷的優(yōu)勢。其可廣泛應(yīng)用于固體氧化物燃料電池、鐵電熱電陶瓷、固態(tài)電解質(zhì)等領(lǐng)域的材料燒結(jié)。在冶金領(lǐng)域，這種快速燒結(jié)技術(shù)可用于研究陶瓷材料的微觀結(jié)構(gòu)和性能，為開發(fā)高性能陶瓷基復(fù)合材料提供支持。

1650℃真空感應(yīng)區(qū)熔爐 229     

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SKJ-1650-ZM是一款1650℃真空感應(yīng)區(qū)熔爐，由15KW感應(yīng)電源、密封石英管裝樣及測溫裝置、線圈和坩堝伺服升降機(jī)構(gòu)、水冷機(jī)以及PLC控制系統(tǒng)組成。該設(shè)備最高溫度可達(dá)1650℃，可在真空或氣氛環(huán)境下實現(xiàn)材料的熔化提純、定向凝固以及單晶生長等實驗工藝。在冶金領(lǐng)域，SKJ-1650-ZM可用于金屬材料的凈化提純和定向凝固，幫助研究人員開發(fā)高性能金屬材料。

定向CVD生長爐 250     

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OTF-1200X-50-DSL是一款專為定向生長單壁碳納米管（SWCNTs）設(shè)計的水平滑軌式CVD生長爐，同時也適用于在硅片上生長低熔點金屬單晶。其爐管直徑為Φ50mm，爐體滑動速度可在1mm/s至100mm/s范圍內(nèi)調(diào)節(jié)，并支持左右反復(fù)滑動及自定義滑動距離，為實驗提供了高度的靈活性。該系統(tǒng)配備可設(shè)置30段程序的高溫爐、一根Φ50×1000mm的石英管和一套不銹鋼真空法蘭，能夠滿足多種材料生長的需求。在冶金領(lǐng)域，該設(shè)備可用于研究低熔點金屬的單晶生長機(jī)制，為開發(fā)高性能金屬材料提供重要的實驗支持。

100ml鎳基合金高溫高壓反應(yīng)釜 245     

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RC-Ni-100是一款專為高溫高壓冶金實驗設(shè)計的100ml反應(yīng)釜，采用鎳基高溫合金鋼制作，具有極高的蠕變強度和抗氧化性。該設(shè)備最高工作溫度可達(dá)1100℃，在該溫度下可承受最高壓力為4MPa，非常適合在高壓氧環(huán)境下對金屬樣品進(jìn)行熱處理，以及通過水熱法合成高性能冶金材料。其優(yōu)異的耐高溫高壓性能，使其成為冶金領(lǐng)域研究和開發(fā)新型材料及工藝的理想工具。

晶體生長爐 240     

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SKJ-50CZ是一款高質(zhì)量的CZ晶體生長爐，最高溫度可達(dá)2100℃，適用于冶金領(lǐng)域中高純度金屬單晶及氧化物單晶的生長。該設(shè)備可生長藍(lán)寶石、GGG、YAG、LaAlO?、Si、Ge等多種材料，最大晶體尺寸可達(dá)3英寸。其配備中/高頻切換復(fù)合感應(yīng)電源，滿足不同材料的熔煉需求，同時采用高精度上稱重模式和在線稱量裝置，確保晶體生長過程的精確控制。此外，設(shè)備還具備高真空度（最高可達(dá)5.0×10?3Pa）和全不銹鋼水冷腔體，保證生長環(huán)境的穩(wěn)定。

1650℃布里奇曼單晶生長爐 140     

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SKJ-BG1650是一款高質(zhì)量的1650℃布里奇曼單晶生長爐，適用于冶金領(lǐng)域中金屬單晶及多晶材料的生長。該設(shè)備最高溫度可達(dá)1650℃，已成功生長出Cu、Ag、Au、Fe和Mg等金屬單晶，單晶直徑可達(dá)37mm。它配備電動坩堝放置系統(tǒng)，便于樣品的放置和取出。此外，該設(shè)備還可用于多晶棒的定向凝固，在冶金材料的研究和開發(fā)中具有重要應(yīng)用價值。

懸浮提拉晶體生長爐 155     

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SKJ-LCZ是一款特殊的提拉法（CZ）晶體生長爐，采用懸浮熔煉技術(shù)，最高溫度可達(dá)2000℃，適用于生長高純度金屬（合金）單晶。該設(shè)備由高頻感應(yīng)加熱電源、高真空腔體、水冷銅坩堝（懸浮熔煉）和精密提拉機(jī)構(gòu)組成。懸浮熔煉技術(shù)避免了坩堝對金屬樣品的污染，能夠生長出高純度的金屬單晶。這種爐體設(shè)計在冶金領(lǐng)域具有重要意義，尤其適用于高純金屬及合金的單晶生長，可廣泛用于研究和開發(fā)高性能金屬材料。

火焰法單晶生長爐 145     

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SKJ-VE2000是一款小型火焰法單晶生長爐，最高溫度可達(dá)2000℃，專門用于生長各種氧化物晶體，如SrTiO?、Al?O?和TiO?等。設(shè)備配備質(zhì)量流量計，可精確調(diào)節(jié)氫氣和氧氣流量，同時通過調(diào)節(jié)料斗震動頻率控制粉料出料量，籽晶臺具備自動下降和轉(zhuǎn)動功能。在冶金領(lǐng)域，該設(shè)備可用于研究高性能氧化物晶體的生長機(jī)制，為開發(fā)新型冶金材料和優(yōu)化晶體生長工藝提供重要的實驗支持。

1800℃納米制備管式爐 258     

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GSL-1800X-PGEP是一款專為納米結(jié)構(gòu)氧化物合成設(shè)計的多功能系統(tǒng)，廣泛應(yīng)用于冶金領(lǐng)域。該系統(tǒng)由超聲霧化裝置、1800℃管式爐和靜電沉降裝置組成，通過前驅(qū)體霧化、高溫加熱和納米顆粒收集三個步驟，實現(xiàn)納米材料的精確制備。其獨特的設(shè)計能夠精準(zhǔn)控制顆粒尺寸、形態(tài)以及納米/微粒結(jié)構(gòu)，為冶金研究提供了一種先進(jìn)的實驗手段，尤其適用于開發(fā)高性能納米復(fù)合材料和新型冶金催化劑，助力冶金工藝的創(chuàng)新與優(yōu)化。

三溫區(qū)頂部籽晶助溶劑法（TSSG）單晶生長爐 149     

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VTF-1200X-III-TSSG是一款3溫區(qū)頂部籽晶助熔劑法（TSSG）晶體生長爐。此設(shè)備主要由3部分組成：3溫區(qū)加熱爐（爐膛尺寸為：Φ127mm×600mm,最高溫度為1200℃），溫控系統(tǒng)可設(shè)置28段溫度程序段，控溫精度±1℃和精密旋轉(zhuǎn)提拉機(jī)構(gòu)，其提拉速度為0.8-50mm/hour。

混合式小型晶體生長爐 156     

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OTF-1200X-SCB是一款小型晶體生長爐，適用于提拉法或布里奇曼法生長單晶，其最高溫度可達(dá)1100℃。設(shè)備主要由提拉機(jī)構(gòu)和爐體組成，提拉機(jī)構(gòu)具有提拉&旋轉(zhuǎn)功能，爐體采用立式雙溫區(qū)管式爐，爐管為直徑為Φ50mm的石英管，并且配有不銹鋼密封法蘭，此設(shè)備可采用提拉法（用籽晶從熔融態(tài)原來中提拉出單晶）或布里奇曼法（將樣品封入到小石英試管里，石英試管在加熱區(qū)內(nèi)向下移動）生長各種單晶。

真空懸浮感應(yīng)熔煉爐＆澆注爐 168     

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FMF-65是一款落地式水冷坩堝真空懸浮感應(yīng)熔煉爐系統(tǒng)，并且?guī)в雄釄鍍A倒裝置，可做金屬澆注實驗，可用于新一代磁性合金和金屬材料的探索研究。設(shè)備中包含一功率高達(dá)65KW的感應(yīng)熔煉爐，可有效地加熱高達(dá)250g的金屬樣品（Ti），最高加熱溫度達(dá)1800℃。不銹鋼真空腔體保證樣品可在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下進(jìn)行熔煉，采用特殊樣式的水冷銅坩堝使得金屬樣品能夠在熔煉過程中懸浮，避免了坩堝對物料的污染。熔煉過程中強烈的電磁攪拌也能夠保證其樣品內(nèi)部的溫度及化學(xué)成分的均一性。

2000℃高真空氣氛燒結(jié)爐 145     

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GSL-2000X-HV是一款高性能的高溫高真空氣氛燒結(jié)爐，最高燒結(jié)溫度可達(dá)2000℃，真空度高達(dá)10?? Torr（配備擴(kuò)散泵），能夠滿足多種材料在不同氣氛條件下的燒結(jié)需求。設(shè)備安裝尺寸為1300mm×700mm×1750mm，重量為520kg，適用于高校、科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)實驗室進(jìn)行高溫材料合成、陶瓷燒結(jié)、金屬加工等實驗，是材料科學(xué)研究和開發(fā)的理想設(shè)備。

1700℃氣氛保護(hù)小型金屬熔煉鑄造爐 158     

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IMCS-1700-S是一款小型金屬熔煉/鑄造爐，最高溫度可達(dá)1700℃，專為在惰性氣體保護(hù)環(huán)境下熔煉和鑄造各種合金設(shè)計，最大熔煉量約為80g。設(shè)備安裝尺寸為560mm×540mm×610mm（長×寬×高），重量為120kg，結(jié)構(gòu)緊湊，適合實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境，是高校、科研機(jī)構(gòu)及企業(yè)進(jìn)行合金研發(fā)和材料實驗的理想選擇。

2000℃桌面型熔煉澆注爐 170     

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IMCS-2000-S是一款2000℃桌面型熔煉/澆注爐，配備可旋轉(zhuǎn)真空腔體，可在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下通過感應(yīng)加熱熔煉各種金屬材料，最高溫度可達(dá)2000℃。其腔體旋轉(zhuǎn)功能可實現(xiàn)樣品澆注，操作便捷且高效。該設(shè)備安裝尺寸為430×490×500mm，重量僅48kg，體積小巧，適合實驗室環(huán)境，是探索新一代合金的理想工具。

1200℃熔煉/鑄造爐 180     

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VMCS-1200-LD是一款1200℃的熔煉/鑄造爐，適合在氣氛保護(hù)環(huán)境下熔煉各種合金，最高溫度可達(dá)1200℃。該設(shè)備采用封閉腔體設(shè)計，可有效防止樣品在熔煉和澆注過程中生成氧化物及形成缺陷。其石墨坩堝直徑為60mm，配備電阻絲加熱和石墨攪拌棒，能夠快速熔煉金屬，僅需6-8分鐘。此外，該設(shè)備操作簡單，只需設(shè)置鑄造溫度、添加樣品并擠壓操縱桿即可完成澆注。設(shè)備安裝尺寸為770mm×460mm×460mm，重量為54kg，配備雙極旋片真空泵，所需氣體流量為5L/min。

2000℃高真空感應(yīng)熔煉/鑄造爐 258     

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IMCS-2000A是一款實驗型的感應(yīng)熔煉&鑄造系統(tǒng)，可熔煉和澆注各種材料，最大量可達(dá)1kg,最高溫度可達(dá)2000℃在真空狀態(tài)（最高真空度可達(dá)10-4Pa）或惰性氣體保護(hù)狀態(tài)下。

2000℃溫度可控型高通量感應(yīng)熔煉爐 162     

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SP-50KTC-M是一款溫度可控型高通量感應(yīng)熔煉爐系統(tǒng)，可一次性熔煉多個直徑5-8mm的合金桿，溫度可高達(dá)2000℃，此設(shè)備特別適合于采用高通量方法進(jìn)行新一代合金的研究制備。

1700℃溫控型真空感應(yīng)加熱爐 159     

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SP-60KTC是一款MET標(biāo)準(zhǔn)的1700℃溫控型感應(yīng)加熱/熔煉系統(tǒng)，帶進(jìn)料前級系統(tǒng)和熔煉攪拌裝置。石英前級腔室可將各種原材料導(dǎo)入到熔煉坩堝內(nèi)，而不破壞主腔室的環(huán)境。此款設(shè)備特別適合制備各組分熔點相差較大的合金。

溫控型真空感應(yīng)熔煉爐系列 244     

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SP-50KT/SP-85KTC溫控型真空感應(yīng)熔煉爐系列是一款高性能的高溫感應(yīng)熔煉設(shè)備，具備溫控型感應(yīng)加熱和熔煉功能，配備進(jìn)料前級系統(tǒng)和熔煉攪拌裝置，石英前級腔室可將原材料導(dǎo)入熔煉坩堝內(nèi)而不影響主腔室環(huán)境。該系列有兩種型號：SP-50KT和SP-85KTC，分別適用于不同容量的熔煉需求。