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GSL-1100X-RTP50是一款CE認(rèn)證的快速加熱冷卻爐,配置50mm OD×44mm ID×304.8mm L的高純石英管(單端封口),最高工作溫度可達(dá)1100℃,一滑軌安裝在右側(cè)法蘭處用于爐管的手動(dòng)移動(dòng),從而實(shí)現(xiàn)快速的加熱冷卻。為取得最快加熱,可以預(yù)先加熱爐子到設(shè)定的溫度,然后將爐管插入到加熱區(qū)內(nèi);為獲得最快冷卻,可在樣品加熱后從加熱爐中移出爐管在空氣中進(jìn)行強(qiáng)冷。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環(huán)境下可以達(dá)到10℃/s,是低成本快速熱處理的理想爐子。
高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-RTP-C3HV是由4″RTP爐、三通道混氣系統(tǒng)和高真空機(jī)組組成,可進(jìn)行半導(dǎo)體基片、太陽(yáng)能電池及其它樣品(尺寸可達(dá)3″ )的退火,并采用 10KW的紅外燈進(jìn)行加熱,最快升溫速度可達(dá) 120℃/s,配有RS485 接口,可以通過(guò)控制軟件在計(jì)算機(jī)上控制運(yùn)行并顯示溫度曲線。
SP-15VSC上吸鑄式感應(yīng)熔煉爐是一款通過(guò)MET質(zhì)量認(rèn)證且頂部帶有真空吸鑄裝置的15KW感應(yīng)加熱/熔化系統(tǒng)。這種獨(dú)特的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)通過(guò)將熔融金屬直接抽吸到頂部石英管中來(lái)鑄造產(chǎn)品(3-5mm直徑的合金棒)。真空吸鑄裝置所施加的吸力能夠讓熔體快速運(yùn)動(dòng)從而使石英管內(nèi)的熔體的快速凝固。該套設(shè)備采用吸鑄法鑄造合金能有效減小合金收縮缺陷,是制備小直徑合金棒的理想工具。
1400℃三溫區(qū)真空氣氛管式爐GSL-1400X-Ⅲ以硅碳棒為加熱元件,采用S型單鉑銠熱電偶測(cè)溫和708P溫控儀自動(dòng)控溫。本機(jī)設(shè)有真空裝置,可在多種氣氛下工作,主要用于電子陶瓷產(chǎn)品的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e(CVD)等工藝,特別適合批量生產(chǎn)使用。
AM-800-3電弧熔煉爐(3工位,帶有鑄造和磁力攪拌系統(tǒng),最大熔煉量為200g)是一款大型的高真空電弧熔煉系統(tǒng),3個(gè)熔煉工位(3坩堝)。一個(gè)工位帶有磁力攪拌系統(tǒng)(熔煉量為80g),一個(gè)熔煉工位帶有真空吸注裝置(熔煉量為150g),最后一個(gè)工位最大熔煉量為200g.此多工位熔煉系統(tǒng)可實(shí)時(shí)各種實(shí)驗(yàn)用于探索新一代合金。
25KW程序控溫感應(yīng)熔煉爐SP-25TC是一款小型程控感應(yīng)熔煉系統(tǒng),配備有直徑?100mm的石英管、不銹鋼法蘭、石墨坩堝、真空泵、水冷機(jī)和移動(dòng)架,最大功率為25KW,是生長(zhǎng)晶體和合金熔煉(熔點(diǎn)< 1700oC)的理想選擇。
SP-MSM200(非自耗式)小型金屬熔煉爐是一款小型的電弧熔煉爐,可在不破壞氣體保護(hù)氣氛的條件下翻轉(zhuǎn)合金錠進(jìn)行多次熔煉,且可以同時(shí)制備多個(gè)樣品(少于7個(gè)),是高等院校、科研院所制備金屬及合金試樣的理想設(shè)備,可用于新型合金材料的制備及提純、混合應(yīng)用。
VBF-1200X-H8是一款已通過(guò)CE認(rèn)證的真空管式爐,加熱絲均勻分布石英腔體外側(cè)。腔體尺寸 Φ200x340mm水平安裝. 專用水冷法蘭及針閥密封,使用雙旋片機(jī)械泵或分子泵機(jī)組時(shí)真空度可達(dá)10-2 ~10-5torr。它是專門(mén)針對(duì)在1100℃真空或各種氣氛條件下對(duì)6"以下的樣品進(jìn)行熱處理而設(shè)計(jì)的,同時(shí)此款設(shè)備也可以作為真空焊接爐,來(lái)焊接小的樣品。
GSL-1600X-VIGA300氣體霧化金屬粉末制備系統(tǒng)是**研制開(kāi)發(fā)的冶金設(shè)備,可用于制備鐵基金屬粉末、鎳基金屬粉末、銅粉末、貴金屬粉末等。與同類(lèi)設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作及清理方便的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料粉末的理想設(shè)備。
GSL-1100X-MGI-16是一款16通道管式爐,針對(duì)于高通量樣品燒結(jié),退火和淬火使用,其最高溫度可達(dá)1100℃。每個(gè)加熱模塊都由獨(dú)立的溫控系統(tǒng)控制,每個(gè)爐管都是采用真空法蘭密封可對(duì)樣品在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下進(jìn)行熱處理。
1100℃高壓氫氣管式爐OTF-1200X-60HG是專為在氫氣條件下處理樣品而設(shè)計(jì)的,最高溫度可達(dá)1100℃,采用可編程的30段精密溫度控制器。本機(jī)爐管采用無(wú)縫鎳基合金制作而成,爐管可用于所有惰性氣體和氧氣氣氛,氣壓可達(dá)到30 PSI。此外,本機(jī)設(shè)有3M氫氣探測(cè)報(bào)警器,一旦發(fā)現(xiàn)泄露,報(bào)警器將自動(dòng)關(guān)閉高純氫氣發(fā)生器。
800℃雙溫區(qū)高壓爐OTF-1200X-II-HVHP-80是高溫高壓管式爐,爐管采用 SS310S鎳基合金鋼制作而成,兩端配有法蘭和閥門(mén),專為在105 PSI高壓下使用,可在通入氧化或惰性氣體的氣氛下,處理特殊的化合物。本機(jī)采用PID方式進(jìn)行控溫,每個(gè)溫區(qū)可獨(dú)立控制。
2000℃溫度可控型30KW感應(yīng)加熱爐SP-85KTC是一款較大型高溫感應(yīng)加熱、熔煉爐系統(tǒng),配備30KW感應(yīng)加熱器、8.5"(216mm)石英管、鉸接式法蘭及閥門(mén)、石墨坩堝、石墨毯、氧化鋁保溫毯、16L/min循環(huán)冷水機(jī)、真空泵和移動(dòng)爐架,最高溫度可以達(dá)到2000℃(使用時(shí)石英管內(nèi)需通入保護(hù)性氣體),是生長(zhǎng)晶體、金屬熔煉和各種材料的熱處理的**選擇。
KSL-1100X-S-H是一款通過(guò)CE認(rèn)證的小型混合管式/箱式爐,其爐膛尺寸為100x100x100mm,做為單純的箱式爐可對(duì)樣品在空氣環(huán)境下進(jìn)行熱處理。此款設(shè)備配有石英爐管和不銹鋼密封法蘭,可對(duì)樣品在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下進(jìn)行熱處理。設(shè)備最高溫度可達(dá)1100℃,而且功率僅僅為500-700W。另外設(shè)備體積較小,可放入到手套箱里操作。
MSM20-8(非自耗式)小型金屬熔煉吸鑄爐是一款小型的電弧熔煉爐,可在不破壞氣體保護(hù)氣氛的條件下翻轉(zhuǎn)合金錠進(jìn)行多次熔煉,且可以同時(shí)制備多個(gè)樣品(少于7個(gè)),是高等院校、科研院所制備金屬及合金試樣的理想設(shè)備,可用于新型合金材料的制備及提純、混合應(yīng)用。
1200℃雙管三溫區(qū)管式爐(石墨烯生長(zhǎng))OTF-1200X-III-D5-4最高工作溫度可以達(dá)到1200℃,專門(mén)針對(duì)于用CVD方法在金屬箔上生長(zhǎng)薄膜物質(zhì),如石墨烯、太陽(yáng)能電池的電極材料和其他電池電極材料等。
MTI系列加熱平臺(tái)是專為材料加工及材料研究實(shí)驗(yàn)室而開(kāi)發(fā),采用鋁材質(zhì)整體鑄造,單片機(jī)作為核心控制部件,升溫速度快,控溫精準(zhǔn),溫度高低可調(diào),使用完畢后散熱速度快。MTI系列加熱平臺(tái)主要適用于加熱時(shí)不會(huì)發(fā)生性質(zhì)和性狀改變的材料,即不受加熱影響的材料,尤為適用于對(duì)溫度敏感材料(如晶體、半導(dǎo)體、陶瓷、金屬等材料)的加熱。也可用于實(shí)驗(yàn)室做化學(xué)分析、物理測(cè)定、熱處理時(shí)進(jìn)行物品的烘焙、干燥以及其它溫度試驗(yàn)加熱。設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單操作方便,是實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行加熱用的合適工具。
1700℃三溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1700X-Ⅲ采用三個(gè)數(shù)字溫度控制器進(jìn)行獨(dú)立控溫,可設(shè)置30段升降溫程序,中心加熱區(qū)采用800℃級(jí)硅鉬棒加熱,另外兩個(gè)溫區(qū)采用硅碳棒進(jìn)行加熱,調(diào)整三個(gè)溫區(qū)的溫度,可形成一個(gè)溫度梯度,進(jìn)行功能材料的制備。同時(shí),本機(jī)也適用于CVD法制作薄膜外延生長(zhǎng)。
GSL-1200X-MGI-8是一款1200℃小型8通道管式爐,其爐管直徑為20mm,可用于高通量燒結(jié),最高溫度可達(dá)1200℃。每個(gè)加熱模塊都由獨(dú)立的溫控系統(tǒng)控制,每個(gè)爐管采用真空法蘭密封,可同時(shí)放入8個(gè)樣品,在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下進(jìn)行不同溫度的熱處理,占地小,能耗低,是高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫?zé)Y(jié)、金屬退火、質(zhì)量檢測(cè)用的理想產(chǎn)品。
1700℃真空管式爐GSL-1700X-S采用30段程控PID控溫儀,最高溫度可達(dá)到1700℃,可廣泛地用于真空或惰性氣體保護(hù)狀態(tài)下材料的燒結(jié)和退火。
1200℃高溫箱式爐(27L)KSL-1200X-M爐膛體積為27L,采用高純氧化鋁作為爐膛材料,且表面涂有高溫氧化鋁涂層,以提高加熱效率和保持爐膛潔凈度,延長(zhǎng)使用壽命。溫控系統(tǒng)采用PID方式調(diào)節(jié)溫度,可設(shè)置30段升降溫程序,最高工作溫度可達(dá)到1200℃。
帶滑動(dòng)法蘭三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-1200X-5-III-F3LV可以快速加熱至1200℃,并通過(guò)調(diào)整三個(gè)溫區(qū)而建立不同梯度的熱場(chǎng),可進(jìn)行退火、擴(kuò)散、在不同氣氛中燒結(jié)樣品及CVD等實(shí)驗(yàn)。
快速升溫CVD系統(tǒng)RTP-1000-F3LV是專為半導(dǎo)體基片、太陽(yáng)能電池及其它樣品(尺寸可達(dá)3″ )的退火而設(shè)計(jì),配有3路流量計(jì)和機(jī)械泵。本機(jī)采用 9KW的紅外燈進(jìn)行加熱,最快升溫速度可達(dá) 100℃/s,配有RS485 接口,可以通過(guò)控制軟件在計(jì)算機(jī)上控制運(yùn)行并顯示溫度曲線。
1200℃臺(tái)式箱式爐(7.2L,含通氣孔或觀察窗)KSL-1200X采用瑞典康泰爾電阻絲為加熱元件,最高溫度可達(dá)到1200℃,連續(xù)工作為1100℃。本機(jī)具有表面溫度低、升降溫度速率快、溫場(chǎng)均衡及節(jié)能等優(yōu)點(diǎn),是高校、科研院所、工礦企業(yè)進(jìn)行高溫?zé)Y(jié)、金屬退火、質(zhì)量檢測(cè)的理想設(shè)備。
1400℃小型管式爐GSL-1400X是小型高溫管式爐,采用高純氧化鋁剛玉爐管和硅碳棒加熱元件,設(shè)有兩個(gè)真密封法蘭,控制系統(tǒng)采用高精度可控硅移相觸發(fā)控制,其控溫精度為±1℃,可設(shè)置30段升降溫程序,最高溫度可達(dá)1400℃。
1700℃立式淬火爐GSL-1700X-80VTQ采用直徑80mm的氧化鋁爐管、下置淬冷水箱結(jié)構(gòu),專為淬火樣品能從高溫狀態(tài)進(jìn)入冷水或油等淬冷介質(zhì)中快速冷卻而設(shè)計(jì),以研究材料階段性過(guò)渡和微觀結(jié)構(gòu)。
1800℃高溫真空管式爐GSL-1800X-S內(nèi)膛中嵌有ZrO2內(nèi)襯,并采用Kanthal Super-1900硅鉬棒為加熱元件,最高溫度可以達(dá)到1800℃,廣泛用于真空或惰性氣體保護(hù)狀態(tài)下,新材料樣品的燒結(jié)和退火。
GSL-1100X-XX-S是一款雙溫區(qū)的大口徑管式爐,爐管兩端安裝有鉸鏈?zhǔn)讲讳P鋼密封法蘭。此款管式爐可廣泛地應(yīng)用于在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下對(duì)材料進(jìn)行燒結(jié)或退火等熱處理。溫控方面,設(shè)備可達(dá)到最高溫度為1100℃,可設(shè)置30段升降溫程序,控溫精度為+/-1℃。
小型1000℃RTP爐OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速熱處理管式爐,配有4"石英管和真空法蘭,是專為半導(dǎo)體或太陽(yáng)能電池基片(最大3")的退火而設(shè)計(jì)。本機(jī)采用10KW紅外燈管加熱,最快升溫速度為 50℃/s,設(shè)有30段溫度控制,精度為±1℃。此外,通過(guò)RS485口和控制軟件可在計(jì)算機(jī)上實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)控制和溫度曲線顯示。
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