1700℃立式高溫管式爐 368     

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1700℃立式高溫管式爐GSL-1700X-80VT采用硅鉬棒進(jìn)行加熱，最高溫度可以達(dá)到1700℃，專門針對(duì)于材料在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下的燒結(jié)。溫控系統(tǒng)采用PID控制器，可設(shè)置30段升降溫程序，控溫精度為± 1℃。

1200℃三溫區(qū)可傾斜旋轉(zhuǎn)爐 278     

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1200℃三溫區(qū)可傾斜旋轉(zhuǎn)爐OTF-1200X-5L-R-III主要針對(duì)于粉料的混燒，爐管可360°轉(zhuǎn)動(dòng)，且內(nèi)部設(shè)有4片揚(yáng)料板，可增加粉料燒結(jié)的均勻性，因而適合于實(shí)驗(yàn)室中較多粉料的燒結(jié)，特別是鋰電材料的燒結(jié)，如LiFePO3、LiMnNiO3等。

真空熱壓爐 402     

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OTF-1200X-VHP4真空熱壓爐配有?4"石英管、20T電動(dòng)壓力機(jī)，可以加熱到1100℃，帶水冷的法蘭可使真空度達(dá)到10-5torr（用分子泵），在5T壓力下可鍵合多層基片，是在真空高壓下制備致密化合物材料的理想設(shè)備。

1200℃立式真空小管式爐 284     

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1200℃立式真空小管式爐OTF-1200X-S-VT是一款小型開啟式立式管式爐，適合于對(duì)樣品在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下吊燒和淬火。采用PID控制器進(jìn)行溫度調(diào)節(jié)，可設(shè)置30段升降溫程序，控溫精度為± 1℃。

混氣系統(tǒng)4路質(zhì)子 263     

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混氣系統(tǒng)4路質(zhì)子GSL-4Z是用于控制一種到四種的氣體流經(jīng)真空密封的管式爐，這種氣體控制系統(tǒng)安裝在移動(dòng)架內(nèi)，管式爐可以放在移動(dòng)架上面，氣體控制系統(tǒng)的前面板上有控制并顯示氣體流量的調(diào)節(jié)閥，可以用于CVD系統(tǒng)及退火爐，用來研究氣體環(huán)境對(duì)材料的影響，在半導(dǎo)體和集成電路工業(yè)、特種材料學(xué)科、化學(xué)工業(yè)、石油工業(yè)、醫(yī)藥、環(huán)保和真空等多種領(lǐng)域的科研和生產(chǎn)中有著重要的作用，廣泛應(yīng)用于電子工藝設(shè)備，如擴(kuò)散、氧化、外延、CVD、等離子濺射以及鍍膜設(shè)備、光纖熔煉、混氣配氣系統(tǒng)及其它分析儀器。

高真空鉭加熱爐 270     

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高真空鉭加熱爐是高溫電阻加熱爐。以鉭為加熱元件，適用于高真空狀態(tài)下對(duì)金屬、非金屬及其化合物進(jìn)行燒結(jié)、熔化，也可以對(duì)小型樣品進(jìn)行真空釬焊的操作，如硬質(zhì)合金、鎳基合金、粉末冶金、鎳鈷合金、合金鋼、不銹鋼、稀土釹鐵錋等。高真空鉭加熱爐極限工作溫度為2000℃，工作最高溫度1800℃，工作過程中的加熱速度可以通過溫控表進(jìn)行設(shè)置，但升溫速度過快會(huì)使鉭爐膽的壽命會(huì)有所降低，為了延長爐子的使用壽命，推薦每分鐘的升溫速度為20℃，在500℃以下可以適當(dāng)加快升溫速度。

1200℃開啟式雙溫區(qū)管式爐 261     

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1200℃開啟式雙溫區(qū)管式爐OTF-1200X-II最高溫度可達(dá)到1200℃，并可通過調(diào)節(jié)兩個(gè)獨(dú)立的控溫程序，使?fàn)t管內(nèi)溫度場(chǎng)形成一梯度。本機(jī)可用CVD方法來生長納米材料和制作各種薄膜。

1200℃單管滑動(dòng)快速加熱冷卻爐 269     

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1200℃單管滑動(dòng)快速加熱冷卻爐OTF-1200X-80SL底部安裝一對(duì)滑軌，可手動(dòng)進(jìn)行爐體移動(dòng)，最高工作溫度達(dá)1200℃，加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環(huán)境下可以達(dá)到10℃/s。為獲得最快加熱，可預(yù)先加熱爐子到設(shè)定的溫度，然后移動(dòng)爐子到樣品位置；為獲得最快冷卻，可在樣品加熱后移動(dòng)爐子至另一端，本機(jī)是低成本進(jìn)行快速熱處理的理想設(shè)備。

1500℃三溫區(qū)開啟式管式爐 203     

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1500℃三溫區(qū)開啟式管式爐OTF-1500X-III是高溫管式爐，最高溫度可達(dá)1500℃，三個(gè)溫區(qū)分別用三個(gè)獨(dú)立的溫控系統(tǒng)控制，每個(gè)溫區(qū)都可以設(shè)置30段升降溫程序，并設(shè)有過熱和斷偶保護(hù)功能，控溫精度高達(dá)±1℃。本機(jī)特別適合于在氣氛保護(hù)或真空環(huán)境下對(duì)樣品進(jìn)行退火和燒結(jié)。

微波氣氛燒結(jié)爐 374     

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QS型微波氣氛燒結(jié)爐是標(biāo)準(zhǔn)化多功能微波高溫實(shí)驗(yàn)工作站，適用于各種氣氛、真空條件下的合成、焙燒、熱處理、燒結(jié)等工藝研究。

真空感應(yīng)熔煉爐 476     

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真空感應(yīng)熔煉爐SP-15VIM適用于大專院校、研究所實(shí)驗(yàn)室小量金屬樣品的迅速融化，是研制新型金屬材料的理想工具。

微波高溫管式爐 382     

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LZG型微波高溫管式爐是標(biāo)準(zhǔn)化多功能微波立式氣氛管式爐，適用于各種氣氛、真空條件下的合成、焙燒、熱處理、燒結(jié)等工藝研究，尤其適用于各種氣固相、氣相反應(yīng)、合成反應(yīng)、分解反應(yīng)等。

小型鈦金屬反應(yīng)釜 272     

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RC-Ti-100小型鈦金屬反應(yīng)釜是由純鈦金屬制作而成，最大可耐4Mpa的壓力，是制備先進(jìn)材料，尤其是水熱法合成生物材料的理想工具。

800℃高壓爐 391     

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800℃高壓爐OTF-1200X-HVHP-80是高溫高壓管式爐，爐管采用 SS310S鎳基合金鋼制作而成，兩端配有法蘭和閥門，專為在105 PSI高壓下使用，可在通入氧化或惰性氣體的氣氛下，處理特殊的化合物。

微波管式爐 289     

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ZG型微波管式爐是標(biāo)準(zhǔn)化多功能微波管式實(shí)驗(yàn)工作站，適用于各種氣氛條件下的合成、焙燒、熱處理、燒結(jié)等工藝研究。

1200℃開啟式立式爐 383     

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1200℃開啟式立式爐OTF-1200X-80-VT是可垂直開啟式管式氣氛爐，能夠?qū)崿F(xiàn)在真空或氣氛保護(hù)條件下對(duì)樣品快速升降溫。本機(jī)可垂直安裝在可移動(dòng)的支架上，方便爐管的取放。

1700℃8升氫氣爐 396     

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KSL-1700X-H2 是一款通過 CE 認(rèn)證的高溫箱式爐，此款儀器專門針對(duì)于材 料在氫氣環(huán)境或惰性氣體環(huán)境進(jìn)行燒結(jié)或是退火，其最高溫度可高達(dá) 1700℃。 KSL-1700X-H2采用氧化鋁纖維作為爐膛材料（爐膛尺寸為200 x 200 x 200 mm）， 以鉬絲作為加熱元件，爐體頂部密封板中嵌有冷卻水管，以保證儀器工作時(shí)的密 封性能。對(duì)需在惰性氣體或還原性氣體環(huán)境下燒結(jié)的材料（如熒光材料，鈦合金 等），KSL-1700X-H2 是一個(gè)非常好的選擇。

雙管滑動(dòng)快速加熱冷卻爐 212     

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雙管滑動(dòng)快速加熱冷卻爐OTF-1200X-4-C4LVS是特殊的雙管CVD系統(tǒng)，是專為在金屬箔上生長薄膜而設(shè)計(jì)的，特別適用于新一代能源——柔性金屬箔電極方面的研究。本機(jī)可通過滑動(dòng)爐體，實(shí)現(xiàn)快速加熱和冷卻。

軌道箱式爐 292     

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軌道箱式爐KSL-1400X以硅碳棒為加熱元件，可控硅、708P智能溫度調(diào)節(jié)儀和S型單鉑銠熱電偶配套使用，由此進(jìn)行對(duì)爐膛內(nèi)部溫度的測(cè)溫調(diào)節(jié)、自動(dòng)控制。爐膛最高溫度為1300℃。采用兩面軌道開門，方便使用。

1800℃小型箱式爐(1.7L) 265     

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1800℃小型箱式爐（1.7L）KSL-1800X-S是一款微型箱式爐，采用Kanthal Super-1900型硅鉬棒和氧化鋯內(nèi)襯爐膛，可在1750℃下連續(xù)使用，最高溫度可達(dá)1800℃。本機(jī)具有體積小巧、節(jié)約能源的優(yōu)點(diǎn)，下開式爐門更易于樣品裝載，并加裝通氣口，可在氧氣或惰性氣氛下操作使用。

微波真空燒結(jié)爐 277     

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ZK型微波真空燒結(jié)爐是標(biāo)準(zhǔn)化多功能微波高溫真空實(shí)驗(yàn)工作站，適用于各種氣氛條件下的合成、焙燒、熱處理、燒結(jié)等工藝研究。尤能實(shí)現(xiàn)微波真空合成或燒結(jié)，并可對(duì)易受氣氛影響的實(shí)驗(yàn)提供更為精細(xì)的氣氛控制。

微波氣氛實(shí)驗(yàn)爐 269     

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QS型微波氣氛實(shí)驗(yàn)爐是標(biāo)準(zhǔn)化多功能微波高溫實(shí)驗(yàn)工作站，具有快速抽真空、可控多氣氛及高溫的實(shí)驗(yàn)條件，適用于各類材料的煅燒、焙燒、燒結(jié)、灰化、焚化、熔融及熱處理等。

氣氛保護(hù)連續(xù)鑄造爐 258     

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IMCS-1500RC-1500℃氣氛保護(hù)連續(xù)鑄造爐是一款感應(yīng)加熱的連續(xù)鑄造爐，可在氣氛保護(hù)環(huán)境下各種合金進(jìn)行熔煉和連續(xù)鑄造，可鑄造出棒材，管材和金屬板材，最高熔煉溫度可達(dá)1500℃。

1700℃箱式爐(3.4L) 261     

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1700℃箱式爐（3.4L）KSL-1700X-A1采用側(cè)開式爐門，以硅鉬棒為加熱元件，智能溫度調(diào)節(jié)儀和B型雙鉑銠熱電偶配套使用，對(duì)爐內(nèi)溫度進(jìn)行測(cè)溫調(diào)節(jié)和自動(dòng)控制，最高工作溫度可達(dá)1700℃。

1200℃雙溫立式爐 263     

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1200℃雙溫立式爐OTF-1200X-4-VT-II是雙溫區(qū)可垂直開啟式立式管式爐，其爐管直徑可制作為100mm，適合于在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下對(duì)樣品進(jìn)行吊燒和淬火。爐體下端裝有一移動(dòng)架，以便移動(dòng)。

1400℃雙溫區(qū)真空氣氛管式爐 257     

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1400℃雙溫區(qū)真空氣氛管式爐GSL-1400X-II以硅碳棒為加熱元件，采用S型單鉑銠熱電偶測(cè)溫和518P溫控儀自動(dòng)控溫。本機(jī)設(shè)有真空裝置，可在多種氣氛下工作，主要用于電子陶瓷產(chǎn)品的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e（CVD）等工藝，特別適合批量生產(chǎn)使用。

2100℃高溫鎢加熱爐 263     

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2100℃高溫鎢加熱爐HVF-2100W-60適用于高真空狀態(tài)下對(duì)金屬、非金屬及其化合物進(jìn)行燒結(jié)、熔化，也可以對(duì)小型樣品進(jìn)行真空釬焊的操作，如硬質(zhì)合金、鎳基合金、粉末冶金、鎳鈷合金、合金鋼、不銹鋼、稀土釹鐵錋等。2100℃高溫鎢加熱爐HVF-2100W-60工作過程中的加熱速度可以通過溫控表進(jìn)行設(shè)置，但升溫速度過快對(duì)鎢爐膽的壽命會(huì)有所降低，為了延長爐子的使用壽命，每分鐘的升溫速度不宜超過40℃。

1200℃單溫區(qū)開啟式真空管式爐 376     

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1200℃單溫區(qū)開啟式真空管式爐OTF-1200X是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)，在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下，對(duì)金屬、非金屬及其它化合物進(jìn)行燒結(jié)、熔化、分析而研制的專用設(shè)備。

1700℃箱式爐(36L) 298     

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1700℃箱式爐（36L）KSL-1700X-A4采用側(cè)開式爐門，以硅鉬棒為加熱元件，智能溫度調(diào)節(jié)儀和B型雙鉑銠熱電偶配套使用，對(duì)爐內(nèi)溫度進(jìn)行測(cè)溫調(diào)節(jié)和自動(dòng)控制，最高工作溫度可達(dá)1700℃，與同系列其他型號(hào)相比，具有更大的有效爐膛。

磁懸浮真空熔煉爐 372     

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磁懸浮真空熔煉爐FMF-40適合研究鐵磁材料，利用40KW高頻電感應(yīng)加熱器和特殊研制的水冷銅坩堝，在加熱融化的同時(shí)使真空石英管底部產(chǎn)生磁力將鐵磁合金樣品懸浮起來。因此，本機(jī)可以在清潔的環(huán)境下生產(chǎn)出高純度的鐵或磁性合金。