超高真空退火爐
超高真空退火爐是專為金屬薄膜和金屬絲的退火與還原處理等熱處理工藝實(shí)驗設(shè)計的設(shè)備,具備極限真空8x10??Pa和工作真空8x10??Pa(在1000℃退火溫度下)的性能指標(biāo),確保在高溫下維持高真空環(huán)境。該爐采用中400x400(mm)立式柱狀雙水冷不銹鋼結(jié)構(gòu),能夠?qū)崿F(xiàn)常溫至1500℃的溫度變化范圍,具備程序控溫和高精度控溫能力,均溫區(qū)尺寸為Ф80x120(mm)。系統(tǒng)由真空抽氣機(jī)組、真空室、測量系統(tǒng)、加熱控溫系統(tǒng)、電動升降系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、液氮冷阱及臺架等組成,并通過計算機(jī)實(shí)現(xiàn)控制,滿足長時間高溫處理需求。
一、主要用途:
設(shè)備主要用于實(shí)現(xiàn)金屬薄膜以及金屬絲的退火與還原處理等熱處理工藝實(shí)驗。
二、技術(shù)指標(biāo):
1.真空指標(biāo):極限真空:8x10-?pa:恢復(fù)真空:5X10-a(2h),5x10-pa(6h);工作真空:8x10-pa;(1000℃退火溫度下)
2.系統(tǒng)結(jié)構(gòu):中400x400(mm)立式柱狀雙水冷不銹鋼結(jié)構(gòu)
3.溫度:溫度變化范用;常溫~1500℃;程序控溫:升溫速率0.1℃~30℃/min;可控;控溫精度:常溫~800℃,±1℃;801℃~1500℃,±1.5℃;1000℃溫度持續(xù)時間不少于20小時
4.均溫區(qū)尺寸:Ф80x120(mm)
5.計算機(jī)實(shí)現(xiàn)控制。
三、系統(tǒng)組成:
系統(tǒng)主要由真空抽氣機(jī)組、真空室、真空測量系統(tǒng)、加熱控溫系統(tǒng)、電動升降系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、液氮冷阱及臺架等組成。