高溫鈦合金離子氮化爐

該設(shè)備具備電阻加熱和等離子加熱雙重加熱電源，設(shè)備可設(shè)計(jì)成鐘罩式和臥式結(jié)構(gòu)，其主要特點(diǎn)是溫度可達(dá)1100度自由可調(diào)實(shí)現(xiàn)高溫狀態(tài)的工件離子氮化，提高了爐溫均勻性和滿足特殊需求的工件氮化，設(shè)備除工件擺放外由可編程序控制器實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)運(yùn)行。設(shè)備可設(shè)計(jì)有多路進(jìn)氣口，既可單路充氣，又可實(shí)現(xiàn)對(duì)爐內(nèi)充入不同的氣體，以便實(shí)現(xiàn)不同的表面處理工藝。

主要用途

設(shè)備主要用于鈦合金的表面氮化、耐熱不銹鋼的表面氮化以及其他高溫合金的表面氮化。

主要技術(shù)指標(biāo)

1、有效工作區(qū)尺寸                Ф1200×H1500（可依據(jù)客戶要求設(shè)計(jì)）

2、 極限真空度                   6.7X10-1 Pa

3、 壓升率                        ≤0.67Pa/h

4、 裝爐量                    800KG；

5、升溫速率                   空爐由室溫升至1100℃少于1小時(shí)

6、抽真空速率                     空爐由大氣抽至6.7X10-1少于30min

7、常用工作溫度                   ≤900℃

8、 最高工作溫度                  1100℃（也可實(shí)現(xiàn)高溫非離子氣體氮化）

9、控溫方式                     可編程自動(dòng)控溫PID參數(shù)自動(dòng)調(diào)節(jié)

10、 控制方式                     全自動(dòng)控制及手動(dòng)聯(lián)鎖控制

離子加熱技術(shù)參數(shù)

1、輸出平均電流：              200A     IGBT 脈沖電源

2、輸出電壓：                  0～1000V連續(xù)可調(diào)、200V以上無(wú)突跳

3、頻    率：                  1000Hz

4、控制方式：                  定頻調(diào)寬

5、輸出波形：                  矩形方波

6、滅弧速度：                  ≤2微秒（us）

7、占空比：                    0～85%連續(xù)可調(diào)

8、輝光控制方式：              PWM