本發(fā)明涉及一種銦摻雜氧化鋅濺射靶材及其透明導電膜的制備方法。該法采用液相法或固相法制備銦摻雜氧化鋅粉體,經(jīng)冷等靜壓成型、真空燒結和氣氛退火得到高純銦摻雜氧化鋅陶瓷靶材,并使用該靶材經(jīng)濺射法制備透明導電膜。其中氧化銦的質量含量為0.5-10%;靶材的純度不低于99.9%;靶材的相對密度不低于95%,最高可達99.5%。采用該靶材經(jīng)濺射法制備的透明導電膜具有優(yōu)良的光電性能,電阻率可低至7×10-4Ωcm,在可見光范圍(400~800nm)最高透過率可達92%,而平均透過率不低于84%,可廣泛應用于
太陽能電池、發(fā)光二極管、平板和液晶顯示等領域。
聲明:
“銦摻雜氧化鋅靶材及透明導電膜的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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