提供了低熔點(diǎn)金屬或合金粉末霧化生產(chǎn)工藝,該工藝包括通過進(jìn)料管提供低熔點(diǎn)金屬或合金的熔體;相對于進(jìn)料管的中心軸,以分流角度將所述熔體分流,以獲得分流的熔體進(jìn)入霧化室的霧化區(qū)域;提供至少一個(gè)速度大于300m/s的霧化氣流,且該至少一個(gè)霧化氣流的體積與單位體積的待霧化的低熔點(diǎn)金屬或合金為某一比率。該工藝可在霧化室中有水的情況下進(jìn)行。
聲明:
“低熔點(diǎn)金屬或合金粉末霧化生產(chǎn)工藝” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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