本實(shí)用新型公開了一種雙層減反射膜冶金
多晶硅太陽(yáng)能電池片及一種太陽(yáng)能電池板,所述雙層減反射膜冶金多晶硅太陽(yáng)能
電池片的硅片為冶金法提純的多晶硅硅片,所述硅片正面涂覆有雙層減反射膜,所述雙層減反射膜均為氮化硅膜,包括第一層膜和第二層膜;所述第一層膜,覆蓋于所述太陽(yáng)能電池片正面,具有第一折射率和第一厚度;所述第二層膜,覆蓋于所述第一層膜上表面,具有第二折射率和第二厚度;所述第一層膜和所述第二層膜的總折射率介于1.98-2.03之間,且第一折射率大于第二折射率,第二厚度大于兩倍的第一厚度,第一厚度和第二厚度之和介于78-85納米之間。本實(shí)用新型解決了太陽(yáng)能電池片色差問(wèn)題顯著及短路電流低的技術(shù)問(wèn)題。
聲明:
“雙層減反射膜冶金多晶硅太陽(yáng)能電池片及太陽(yáng)能電池板” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)