本發(fā)明提供了一種原位生成超細(xì)晶二硅化鉬涂層的方法,屬于原位生成超細(xì)晶二硅化鉬涂層技術(shù)領(lǐng)域。采用沖擊大電流直接加熱鉬箔包裹硅粉末的粉芯箔,利用電熱及電爆炸產(chǎn)生的瞬態(tài)超高溫原位生成二硅化鉬,并使二硅化鉬熔滴以3000-5000m/s的超高速?gòu)膰姌尦隹趪娚渲粱w表面,形成具有冶金結(jié)合的二硅化鉬涂層,涂層的晶粒尺寸在100-1000nm范圍。解決了熱噴涂法原位生成超細(xì)晶二硅化鉬涂層的技術(shù)難點(diǎn),使涂層與基體達(dá)到冶金結(jié)合;并具有成本低、制備工藝較簡(jiǎn)單。
聲明:
“原位生成超細(xì)晶二硅化鉬涂層的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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