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基于激光片光成像的粒子場全場測量方法及其裝置

841   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 14:45:35
本發(fā)明基于激光片光成像的粒子場全場測量方法及其測量裝置,特征是采取互相正交的激光片光照明測試流場中的粒子,采用兩個CCD攝像頭分別獲取垂直于流場方向截面內(nèi)粒子的像以及平行于流場方向平面內(nèi)粒子的運(yùn)動軌跡圖象,通過識別粒子的像和統(tǒng)計(jì)分析其所占象素的多少確定其等效直徑的大小,分析識別粒子的運(yùn)動軌跡圖確定粒子運(yùn)動速度的大小及其方向,給出成像平面內(nèi)粒子的尺度譜和速度場分布。本發(fā)明僅以流場中的粒子為成像對象,無需人為施加示蹤粒子,避免了因示蹤粒子的施加對流場造成的干擾,可廣泛應(yīng)用于兩相或多相流研究中對流場的多參數(shù)、全場動態(tài)測量,在能源與環(huán)境、國防、機(jī)械、化工、冶金、醫(yī)藥和食品等領(lǐng)域中具有廣闊的應(yīng)用前景。
聲明:
“基于激光片光成像的粒子場全場測量方法及其裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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