本發(fā)明公開了一種獲得低稀釋率涂層的激光熔覆方法,該方法是采用高斯分布或近似高斯分布的激光束進(jìn)行激光熔覆,采用負(fù)離焦方式,激光束焦平面位于工件表面下方;利用高斯分布或近似高斯分布的激光束在傳播路徑上光束截面能量密度分布的特點(diǎn),采用負(fù)離焦方式進(jìn)行激光熔覆,激光熔覆過程中控制負(fù)離焦量在4mm~50mm范圍內(nèi);最終獲得稀釋率極低,且與工件良好冶金結(jié)合的激光熔覆涂層。
聲明:
“獲得低稀釋率涂層的激光熔覆方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)