本發(fā)明的目的是制備一種非晶納米晶Ni-Mo復(fù)合鍍層電極。當(dāng)該鍍層電極在電解水、冶金工業(yè)、氯堿工業(yè)中使用時(shí),可有效降低槽壓和電解能耗;降低原料成本;提高電極的反應(yīng)活性,有效提高電解效率。為達(dá)到上述效果,力求制備方法簡(jiǎn)單,性價(jià)比高,本發(fā)明主要采用簡(jiǎn)單易控的電沉積技術(shù),鍍液溫度為室溫,鍍液pH值9.5-10.0,控制制備工藝參數(shù)在允許的誤差范圍內(nèi),控制鍍液離子濃度不變,實(shí)現(xiàn)非晶納米晶Ni-Mo23.36復(fù)合鍍層電極的電沉積。
聲明:
“非晶納米晶復(fù)合鍍層電極的制備工藝” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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