本實(shí)用新型屬于用物理冶金技術(shù)提純
多晶硅的技術(shù)領(lǐng)域。一種電子束及渣濾熔煉提純多晶硅的設(shè)備,設(shè)備由爐門(mén)及真空爐壁構(gòu)成真空設(shè)備,真空設(shè)備的內(nèi)腔即為真空室;真空室底部固定安裝拉錠機(jī)構(gòu),拉錠機(jī)構(gòu)上安裝熔煉坩鍋,熔煉坩鍋外套裝加熱裝置,真空室底部還安裝有水冷支撐桿,水冷銅坩堝安裝于水冷支撐桿之上,加料裝置固定安裝于水冷銅坩堝上方真空爐壁頂部?jī)?nèi)側(cè),水冷銅坩堝通過(guò)導(dǎo)流裝置連通熔煉坩堝,電子槍安裝于真空爐壁頂部,放氣閥安裝于真空爐壁之上。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,構(gòu)思獨(dú)特,一臺(tái)設(shè)備綜合利用電子束熔煉除磷、渣濾熔煉除硼及定向凝固除金屬技術(shù)去除多晶硅中的磷、硼和金屬雜質(zhì),結(jié)構(gòu)緊湊,設(shè)備集成度高,提純效果好,生產(chǎn)效率高。
聲明:
“電子束及渣濾熔煉提純多晶硅的設(shè)備” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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