本發(fā)明涉及一種用于激光晶體的光學(xué)薄膜結(jié)構(gòu)及其制備方法,其特征在 于:在傳統(tǒng)的用于激光晶體的介質(zhì)/金屬的復(fù)合膜系之間增加了一層硬質(zhì)薄膜 緩沖層,其作用是增加介質(zhì)-金屬?gòu)?fù)合膜系的結(jié)合力,并提高復(fù)合膜系的抗激 光損傷閾值,適應(yīng)了大功率激光器的發(fā)展需要。所述的緩沖層薄膜是通過(guò)電 子束熱蒸發(fā)制備的,生長(zhǎng)過(guò)程是首先將TiN顆粒及清洗后的襯底置于真空生 長(zhǎng)室中;將生長(zhǎng)室抽真空;利用電子束照射TiN顆粒,同時(shí)在真空室中通入 一定量的氮?dú)饣蚴堑x子,TiN緩沖層薄膜就會(huì)沉積到襯底上。本發(fā)明TiN 緩沖層可以顯著提高復(fù)合膜系的結(jié)合力和抗激光損傷閾值,對(duì)于飛速發(fā)展的 高功率激光器有著重大的理論和現(xiàn)實(shí)意義。
聲明:
“用于激光晶體的光學(xué)薄膜結(jié)構(gòu)及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)