本發(fā)明涉及含有平行于模板主軸的溝狀空隙的化學(xué)反應(yīng)器模板。溝狀空隙的橫截面積可以是微米級的,也可以是納米級的。化學(xué)反應(yīng)器模板可用來生產(chǎn)微米級和納米級細(xì)絲和顆粒。本發(fā)明的化學(xué)反應(yīng)器模板至少具有兩個基本上平行于所述模板主軸的相交溝狀空隙。本發(fā)明還涉及利用犧牲層制備化學(xué)反應(yīng)器模板的方法。本發(fā)明的化學(xué)反應(yīng)器模板可制成具有多個溝狀結(jié)構(gòu)陣列,以及垂直元件,為溝狀空隙與模板中形成的材料之間的接觸提供通路。本發(fā)明涉及用化學(xué)反應(yīng)器模板制備細(xì)絲和顆粒的方法。細(xì)絲或顆粒在溝狀空隙中形成,然后擠出化學(xué)反應(yīng)器模板。用化學(xué)反應(yīng)器模板可以制備許多器件,在模板的基底上的第一和第二材料體系之間至少具有一個接觸區(qū)。本發(fā)明另一方面提供了用本發(fā)明的化學(xué)反應(yīng)器模板制備的細(xì)絲。相應(yīng)地,本發(fā)明涉及具有納米或微米級截面的定向細(xì)絲,它在具有納米級截面的溝道中制備。
聲明:
“化學(xué)反應(yīng)器模板:犧牲層的制備和模板的應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)