一種
稀土鎳基氧化物多晶薄膜材料的制備方法,屬于無(wú)機(jī)非金屬薄膜材料領(lǐng)域,本發(fā)明是在襯底材料表面生長(zhǎng)具有與稀土鎳基
鈣鈦礦氧化物材料晶格參數(shù)相近的氧化物材料緩沖層;在緩沖層表面進(jìn)一步利用真空沉積法沉積稀土鎳基鈣鈦礦氧化物薄膜。所述稀土鎳基鈣鈦礦氧化物材料的晶體結(jié)構(gòu)為ABO3的鈣鈦礦結(jié)構(gòu)ReNiO3:Re位為單一稀土元素或多種稀土元素的組合;所述緩沖層材料的組分優(yōu)選:鍶銣氧、鈦酸鍶、鑭摻雜鈦酸鍶、釹摻雜鈦酸鍶、鈦酸鋇、鈦酸鈣。本發(fā)明提供了一種簡(jiǎn)便高效制備稀土鎳基鈣鈦礦氧化物多晶薄膜材料的方法,所制備的薄膜材料具有優(yōu)異的溫致與氫致性能,可以進(jìn)一步應(yīng)用于功能電子器件、燃料電池、紅外探測(cè)器件等領(lǐng)域。
聲明:
“稀土鎳基氧化物多晶薄膜材料的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)