本發(fā)明公開了一種高分子薄膜與無機(jī)晶體涂層
復(fù)合材料的制備方法,其特征在于其制備方法如下:1)將高分子薄膜浸入含2%~6%的丙烯酸羥丙酯、甲基丙烯酸或丙烯酸的水溶液或丙酮溶液中,用鈷源輻照,輻照劑量為8~22KGy,劑量率為0.14~0.38Gy/s,2)將按步驟1)得到的接枝高分子薄膜浸入含0.2wt‰~0.4wt‰的聚丙烯酸、聚乙二醇或聚谷氨酸的無機(jī)過飽和溶液中,在8~15℃條件下靜置6~10天,即得本復(fù)合材料。本發(fā)明也公開了由此方法制得的復(fù)合材料。本發(fā)明具有方法簡單、污染小、對基材品種選擇限制性小等優(yōu)點。
聲明:
“高分子薄膜與無機(jī)晶體涂層復(fù)合材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)