本實(shí)用新型涉及痕量氣體監(jiān)測(cè)技術(shù),具體是一種開(kāi)放式痕量氣體監(jiān)測(cè)系統(tǒng)。本實(shí)用新型解決了現(xiàn)有痕量氣體監(jiān)測(cè)系統(tǒng)成本昂貴、體積龐大笨重、不便攜帶、數(shù)據(jù)處理速度慢、結(jié)構(gòu)繁瑣、監(jiān)測(cè)距離短的問(wèn)題。開(kāi)放式痕量氣體監(jiān)測(cè)系統(tǒng),包括量子級(jí)聯(lián)激光器、碲鎘汞探測(cè)器;其中,量子級(jí)聯(lián)激光器的出射端與碲鎘汞探測(cè)器的入射端之間設(shè)有由擴(kuò)束準(zhǔn)直鏡和會(huì)聚透鏡依次串接而成的光路;量子級(jí)聯(lián)激光器的外殼上固定安裝有可見(jiàn)光點(diǎn)式激光器;碲鎘汞探測(cè)器的外殼上固定安裝有瞄準(zhǔn)板;可見(jiàn)光點(diǎn)式激光器的出射端與瞄準(zhǔn)板的板面正對(duì)。本實(shí)用新型適用于工業(yè)檢測(cè)、環(huán)境監(jiān)測(cè)、礦場(chǎng)氣體分析等各種場(chǎng)合的痕量氣體監(jiān)測(cè)。
聲明:
“開(kāi)放式痕量氣體監(jiān)測(cè)系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)