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鎳摻雜鈦酸鉛單晶薄膜及其制備和應(yīng)用

746   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-02 00:40:03
本發(fā)明公開了一種鎳摻雜鈦酸鉛單晶薄膜及其制備和應(yīng)用。該薄膜為表面光滑平整的鎳摻雜鈦酸鉛單晶薄膜,其具有平整的界面,厚度為200nm~3000nm。本發(fā)明是以鈦酸四正丁酯、硝酸鉛、六水合硝酸鎳為主要原料,以氫氧化鉀為礦化劑,引入共沉淀法,并以摻鈮的鈦酸鍶為基板,在200~220℃下進(jìn)行水熱反應(yīng),制備得到鎳摻雜鈦酸鉛單晶薄膜。本發(fā)明制得的表面平整光滑的大面積異質(zhì)外延薄膜,在鐵電存儲(chǔ)器、熱釋電傳感器、光波導(dǎo)、光探測(cè)和電光開關(guān)等領(lǐng)域具有廣泛的潛在應(yīng)用前景。本發(fā)明方法的工藝過程簡(jiǎn)單,易于控制,成本低,易于規(guī)模化生產(chǎn)。
聲明:
“鎳摻雜鈦酸鉛單晶薄膜及其制備和應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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