室溫氧化
石墨烯/酞菁
復(fù)合材料氨敏元件及其制備方法,它涉及一種氨敏元件及其制備方法。本發(fā)明是為了解決氧化石墨烯氨敏元件可逆性與選擇性較差和金屬酞菁為氨敏材料的氣敏元件電阻值較高的技術(shù)問題。本方法如下:一、制備氧化石墨烯/酞菁復(fù)合氨敏材料;二、制備氧化石墨烯/酞菁復(fù)合材料氣敏元件。本發(fā)明制備的室溫氧化石墨烯/酞菁復(fù)合材料氨敏元件,室溫下,在12.5ppm-3200ppmNH3濃度范圍內(nèi)具有較好的響應(yīng),而在較低濃度NH3范圍內(nèi)NH3濃度與響應(yīng)間具有良好的線性關(guān)系,在不同濃度氨氣中都具有良好的靈敏度、可逆性、穩(wěn)定性。本發(fā)明屬于氣敏元件的制備領(lǐng)域。
聲明:
“室溫氧化石墨烯/酞菁復(fù)合材料氨敏元件及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)