本文公開了可用作光學玻片和醫(yī)學植入物的涂層的材料。該材料可以幫助或限制
復合材料的涂層上的細胞的生長。因此,提供了具有基底的復合材料,通過使用脈沖激光沉積(PLD)連續(xù)組成擴展技術在基底的表面上形成了非晶態(tài)金屬氧化物的涂層。金屬氧化物可以是Ag
22、T1O2、CuO和Y2O3中的一種或多種,且涂層可以為從5至100nm厚,且具有的涂層表面的均方根粗糙度為0.1至0.7nm。
聲明:
“沉積非晶態(tài)無機金屬氧化物的薄膜作為用于哺乳動物細胞培養(yǎng)的選擇性基底以及作為植入物涂層” 該技術專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)