本發(fā)明公開了繞射波成像數(shù)據(jù)能量的定量刻度方法、介質(zhì)及電子設備,該方法包括:獲取繞射波成像數(shù)據(jù)與全波場成像數(shù)據(jù)在異常反射處的第一能量比值;基于第一能量比值對繞射波成像數(shù)據(jù)能量進行刻度;對刻度后的繞射波成像數(shù)據(jù)能量進行修正。本發(fā)明的繞射波成像數(shù)據(jù)能量的定量刻度方法實現(xiàn)繞射波成像數(shù)據(jù)地震波形能量的定量刻度,匹配全波場成像疊偏數(shù)據(jù)能量,使繞射波成像數(shù)據(jù)體反演阻抗與全波場成像數(shù)據(jù)反演阻抗一致,以更好的實現(xiàn)不同成像方法下特殊地質(zhì)體成像特征差異對比。
聲明:
“繞射波成像數(shù)據(jù)能量的定量刻度方法、介質(zhì)及設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)