本發(fā)明公開了一種鈮酸鋰薄膜QPSK光調(diào)制器及其制造方法,包括:石英基底晶片、鈮酸鋰薄膜、光學(xué)波導(dǎo)、金屬薄膜電極以及金屬封裝管殼。本發(fā)明的有益效果如下:1)縮短了彎曲波導(dǎo)長(zhǎng)度和行波電極長(zhǎng)度,去掉了直流偏移補(bǔ)償電極,實(shí)現(xiàn)了鈮酸鋰QPSK光調(diào)制器的小型化;2)采用低介電常數(shù)的石英材料作為鈮酸鋰單晶薄膜的基底晶片,實(shí)現(xiàn)了微波折射率與光波折射率的良好匹配,提高了鈮酸鋰QPSK光調(diào)制器的調(diào)制帶寬;3)去掉了直流偏移補(bǔ)償電極,降低了鈮酸鋰QPSK光調(diào)制器的信號(hào)處理復(fù)雜性;4)提高了鈮酸鋰薄膜晶圓的利用率,降低了鈮酸鋰薄膜QPSK光調(diào)制器的制造成本。
聲明:
“鈮酸鋰薄膜QPSK光調(diào)制器及其制造方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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