本發(fā)明公開了一種化學(xué)氣相沉積過程中反應(yīng)氣氛的監(jiān)控系統(tǒng),包括化學(xué)氣相沉積爐,化學(xué)氣相沉積爐具有反應(yīng)室,反應(yīng)室頂部與真空管道連接、底部與Zn原料坩堝連接,真空管道通過采樣泵與樣品室連接,樣品室還與稀釋管道、
真空泵以及氣體分析儀連接,真空泵一端還與真空管道連接,氣體分析儀、采樣泵、真空泵均與控制器連接,控制器與計算機(jī)連接;還公開一種監(jiān)控方法,通過檢測反應(yīng)殘余氣體中H2S或H2Se的濃度,進(jìn)而改變通入Zn坩堝原料載氣的流量。本發(fā)明能夠保證長時間沉積生產(chǎn)過程中反應(yīng)空間內(nèi)原料配比的一致性,且安全可靠,從而生產(chǎn)出高質(zhì)量的光學(xué)材料。
聲明:
“化學(xué)氣相沉積過程中反應(yīng)氣氛的監(jiān)控系統(tǒng)及方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)