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提升熔石英光學(xué)元件損傷閾值的后處理方法

804   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:04:03
本發(fā)明公開了一種提升熔石英光學(xué)元件損傷閾值的后處理方法,該方法首先利用熒光共焦顯微技術(shù)檢測熔石英光學(xué)元件亞表面缺陷分布的范圍與尺度,然后通過KHz和MHz頻率的多頻超聲波交替復(fù)用輔助化學(xué)腐蝕技術(shù),針對不同深度分布的亞表面缺陷刻蝕不同的深度,針對不同尺度的亞表面缺陷采用不同的頻率,逐層次的剝離亞表面缺陷層,以達(dá)到提升損傷閾值的目的。本發(fā)明對于光學(xué)元件具有全局處理能力,經(jīng)過氫氟酸腐蝕處理以后拋光沉積層全部去除,暴露了亞表面損傷層中的劃痕,且劃痕尖銳的新貌得以很好的鈍化,引入多頻超聲波/兆聲波輔助可以作用不同尺度的劃痕鈍化,防止刻蝕反應(yīng)副產(chǎn)物再沉積,提高工藝穩(wěn)定性,可以極大的穩(wěn)定的提升熔石英光學(xué)元件的損傷閾值。
聲明:
“提升熔石英光學(xué)元件損傷閾值的后處理方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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