本發(fā)明公開了一種厚度在1微米以上的鋨膜及其制造方法。該方法通過在玻璃基片上用PVD法鍍鉻膜,再在鉻膜上用PVD法鍍一層導(dǎo)電系數(shù)高、化學(xué)穩(wěn)定性好的金膜,然后在金膜上電鍍鋨膜而成。電鍍分次進(jìn)行、從而使鋨膜厚度達(dá)到1微米以上。本發(fā)明的鋨膜可用于制備空間原子氧環(huán)境探測器,解決了傳統(tǒng)的PVD方法淀積鋨膜容易發(fā)生開裂現(xiàn)象以及鋨層鍍不厚問題。
聲明:
“鋨膜的電鍍制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)