本發(fā)明公開了一種GIS設(shè)備X射線數(shù)字圖像雙屏對(duì)比分析診斷方法，在得到運(yùn)行有疑似缺陷的GIS設(shè)備經(jīng)X射線檢測(cè)后的有疑似缺陷檢測(cè)圖像文件后，將之與附近運(yùn)行正常的GIS設(shè)備經(jīng)X射線檢測(cè)后的正常檢測(cè)圖像文件對(duì)比分析，或者將之與GIS設(shè)備新建之初經(jīng)X射線檢測(cè)后的備案檢測(cè)圖像文件對(duì)比分析，具體處理方式為：將有疑似缺陷圖像文件和正常檢測(cè)圖像文件/備案檢測(cè)圖像文件分別顯示對(duì)比分析。本發(fā)明采用雙屏法對(duì)有疑似缺陷檢測(cè)圖像文件和正常檢測(cè)圖像文件/備案檢測(cè)圖像文件進(jìn)行分別顯示，與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有視野范圍廣，兩個(gè)圖像文件易對(duì)比分析，可同時(shí)調(diào)整灰度，分辨率無損失，以及防漏檢等優(yōu)點(diǎn)，可實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)庫(kù)資源有效利用。