本發(fā)明公開(kāi)了一種字印痕跡形成時(shí)間鑒定方法，順序執(zhí)行以下步驟：S1：利用近紅外設(shè)備提取載體上的形成時(shí)間未知的待測(cè)字印痕跡中的綜合成分?jǐn)?shù)據(jù)并轉(zhuǎn)換成第一圖譜，利用近紅外設(shè)備提取載體上的樣本字印痕跡中的綜合成分?jǐn)?shù)據(jù)并轉(zhuǎn)換成第二圖譜；S2：對(duì)第一圖譜進(jìn)行導(dǎo)數(shù)分析和平滑處理得到第一待分析圖譜，對(duì)第二圖譜進(jìn)行導(dǎo)數(shù)分析和平滑處理得到第二待分析圖譜；S3：將第一待分析圖譜與第二待分析圖譜進(jìn)行基礎(chǔ)相關(guān)系數(shù)分析，若相關(guān)系數(shù)大于設(shè)定的閾值，則判定待測(cè)字印痕跡與樣本字印痕跡的形成時(shí)間一致。采用本發(fā)明的字印痕跡形成時(shí)間鑒定方法能夠?qū)崿F(xiàn)快速、無(wú)損、可靠、準(zhǔn)確地實(shí)現(xiàn)載體上制作形成時(shí)間辨識(shí)的目的。