一公斤標準金錠澆筑 321     

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一公斤標準金錠澆筑是貴金屬加工領(lǐng)域中一項重要的工藝流程，主要用于將高純度的金液澆鑄成符合國家標準的金錠。這種工藝廣泛應(yīng)用于金銀冶煉廠、貴金屬精煉廠以及珠寶制造企業(yè)，是將金從液態(tài)轉(zhuǎn)化為固態(tài)標準金錠的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。標準金錠不僅具有高純度，還具備統(tǒng)一的規(guī)格和質(zhì)量標準，便于市場交易和儲存。

坩堝鉗 421     

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坩堝鉗是一種專門用于高溫環(huán)境下操作坩堝的工具，廣泛應(yīng)用于實驗室、冶金、化工、玻璃制造以及珠寶加工等領(lǐng)域。它主要用于夾取、移動和處理高溫坩堝，確保在高溫操作過程中人員的安全和操作的便利性。坩堝鉗的設(shè)計考慮了耐高溫、隔熱、耐用性和操作靈活性，是高溫實驗和工業(yè)生產(chǎn)中不可或缺的輔助工具。

電阻爐 234     

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電阻爐是一種利用電流通過電阻元件產(chǎn)生熱量來加熱工件或材料的設(shè)備。它廣泛應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)、科研實驗以及材料加工等領(lǐng)域，主要用于金屬的熱處理、陶瓷燒結(jié)、玻璃熔化、粉末冶金等工藝。電阻爐具有結(jié)構(gòu)簡單、操作方便、溫度控制精確等特點，是現(xiàn)代工業(yè)中不可或缺的加熱設(shè)備。

中頻升降熔銀爐 291     

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中頻升降熔銀爐是一種專為熔煉銀等貴金屬設(shè)計的高效熔煉設(shè)備，采用中頻感應(yīng)加熱技術(shù)，通過感應(yīng)線圈產(chǎn)生高頻電磁場，使金屬在短時間內(nèi)迅速升溫至熔點，實現(xiàn)快速熔煉。該設(shè)備特別適用于銀、金、銅、鋁等金屬及其合金的熔煉，廣泛應(yīng)用于貴金屬加工、珠寶制造和金屬鑄造等領(lǐng)域。

中頻翻轉(zhuǎn)熔煉爐 300     

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中頻翻轉(zhuǎn)熔煉爐是一種高效、節(jié)能、環(huán)保的金屬熔煉設(shè)備，廣泛應(yīng)用于鐵、鋼、銅、鋁、鋅等金屬及其合金的熔煉。該設(shè)備采用中頻感應(yīng)加熱技術(shù)，通過感應(yīng)線圈產(chǎn)生高頻電磁場，使金屬材料在短時間內(nèi)迅速升溫至熔點，實現(xiàn)快速熔煉。其獨特的翻轉(zhuǎn)設(shè)計，便于熔煉完成后金屬液體的傾倒和澆鑄，提高了生產(chǎn)效率和操作安全性。

高頻小型熔金爐 278     

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高頻小型熔金爐是一種高效、節(jié)能且可靠的金屬熔煉設(shè)備，采用全固態(tài)IGBT變頻及功率調(diào)節(jié)技術(shù)，具備全方位的保護功能，如過流、欠水、過熱、過壓、短路和缺相保護，極大提升了設(shè)備的穩(wěn)定性和安全性。設(shè)備配備多種顯示功能，包括電流、電壓和時間顯示，使工作狀態(tài)直觀可見，便于操作和維護。其超小體積、輕便重量和可移動性，占地不足1平方米，為客戶節(jié)省大量生產(chǎn)空間。此外，該設(shè)備支持100%全負載、24小時連續(xù)工作，尤其在加熱不銹鋼、銅、工業(yè)硅、鋁等不導(dǎo)磁物質(zhì)時，融化速度快，材料元素燒損少，節(jié)能20%以上，顯著降低成本。

熔金爐 264     

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熔金爐是一種用于熔煉黃金及其他貴金屬的重要設(shè)備，廣泛應(yīng)用于黃金采礦、金屬冶煉以及珠寶制造等領(lǐng)域。其主要功能是將金屬原料加熱至熔點，以便進行提純、合金化和鑄造。隨著科技的進步，熔金爐在能源效率、溫度控制精度和廢氣處理能力等方面得到了顯著提升。

高導(dǎo)熱薄膜石墨爐 231     

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高導(dǎo)熱薄膜石墨化爐是專為高導(dǎo)熱薄膜，尤其是聚酰亞胺（PI）薄膜的石墨化工藝而設(shè)計的專用設(shè)備。該爐利用中頻感應(yīng)加熱實現(xiàn)快速升溫和高效率。其獨特的設(shè)計可確保整個爐腔內(nèi)的溫度非常均勻。該爐采用雙層氧化鋁磚隔熱結(jié)構(gòu)，可防止短路，具有出色的隔熱和防火性能，從而將熱量損失降至最低，并增強了設(shè)備的穩(wěn)定性。它可以用一個電源靈活配置多臺電爐，通過接通電爐電源進行加熱和關(guān)閉電源進行冷卻，從而實現(xiàn)連續(xù)運行。電爐的每個水道都配有數(shù)字流量監(jiān)控系統(tǒng)，確保電源柜內(nèi)的全面保護。

負極材料石墨爐 233     

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石墨化爐是用于生產(chǎn)電池負極材料的專用設(shè)備。它利用中頻感應(yīng)加熱實現(xiàn)快速升溫和高效率。獨特的爐體設(shè)計可確保整個爐體具有極佳的溫度均勻性。雙層氧化鋁磚隔熱材料具有優(yōu)異的隔熱性和耐火性，最大限度地減少了熱量損失，提高了設(shè)備的穩(wěn)定性。該系統(tǒng)可通過多個電源和電爐連續(xù)運行，并可配置加熱和冷卻周期。先進的功能包括用于水流監(jiān)測和保護的數(shù)字流量監(jiān)測系統(tǒng)、高性能中頻接觸器以及全面的 PLC 水、電、氣自動控制和保護系統(tǒng)。

立式高溫石墨化爐 231     

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立式高溫石墨化爐是一種高溫爐，用于石墨化實驗和各種碳材料的生產(chǎn)。其特點是升溫快、效率高、溫度分布均勻。該爐采用雙層氧化鋁磚保溫，防止短路，確保隔熱、防火和穩(wěn)定性。它具有數(shù)字流量監(jiān)控系統(tǒng)和全面的 PLC 水、電、氣自動控制和保護系統(tǒng)。

大型立式石墨化爐 235     

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大型立式高溫石墨化爐是一種用于碳纖維和炭黑等碳材料石墨化的工業(yè)爐。它是一種高溫爐，溫度最高可達 3100°C。該爐通常用于生產(chǎn)大型碳碳復(fù)合材料，如碳碳坩堝和碳碳圓柱體。該爐還可用于炭黑和碳纖維等大量碳材料的石墨化。

臥式高溫石墨化爐 232     

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石墨化爐是生產(chǎn)碳產(chǎn)品和碳材料的關(guān)鍵設(shè)備。它用于石墨化實驗和各種碳材料的生產(chǎn)，最高溫度可達 3100°C。該爐擅長碳材料的石墨化和碳纖維絲的定型石墨化。它可以配置多個電爐，以適應(yīng)不同的燒結(jié)過程時間，并通過交替供電和冷卻實現(xiàn)連續(xù)運行。

超高溫石墨化爐 283     

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超高溫石墨化爐利用真空或惰性氣體環(huán)境中的中頻感應(yīng)加熱。感應(yīng)線圈產(chǎn)生交變磁場，在石墨坩堝中產(chǎn)生渦流，從而加熱并向工件輻射熱量，使其達到所需的溫度。該爐主要用于碳材料、碳纖維材料和其他復(fù)合材料的石墨化和燒結(jié)。它由爐體、爐蓋、加熱傳感器、隔熱層、電極抽取裝置、水循環(huán)分配系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、溫度控制系統(tǒng)等組成。電氣系統(tǒng)包括一個 60KVA、IGBT 晶體管中頻電源和水冷電纜，配有各種指示儀表和報警功能?？刂撇糠植捎?15 英寸觸摸屏和可編程控制器 PLC。

連續(xù)工作的電加熱熱解爐設(shè)備 242     

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電轉(zhuǎn)爐是一種以電為熱源的工業(yè)爐。它常用于各種材料的煅燒和干燥，包括磷酸鐵、磷酸鐵鋰、錳酸鋰、陰極石墨、三氧化鈷、陰極硅碳、氫氧化鋰、粉末除碳、氧化鋅、氧化鐵、氧化錳、稀土材料和有色金屬。該爐的特點是加熱速度快、能效高、經(jīng)久耐用。它采用鎳基合金爐管，可承受高達 1100℃ 的連續(xù)工作溫度，確保了使用壽命和可靠性。此外，該爐采用優(yōu)質(zhì)碳化硅（SiC）加熱元件，可延長使用壽命并簡化維護。

1200℃ 馬弗爐 220     

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KT-12M 馬弗爐采用日本高純度多晶氧化鋁纖維保溫，內(nèi)嵌摻鉬耐熱加熱絲線圈，加熱速度高達每分鐘 30 度，工作溫度高達 1200C；PID 智能溫度微處理器，控溫精度高，溫度均勻性好。

底部升降爐 228     

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KT-BL 爐底升降爐具有良好的溫度均勻性，便于產(chǎn)品批量生產(chǎn)，其加熱元件布置在爐膛的四面，可形成良好的加熱輻射場；爐底升降爐可配備 2 個電動升降產(chǎn)品裝載臺，操作員可在另一個臺處于加熱室時將產(chǎn)品裝載到第二個臺上，從而大大提高了生產(chǎn)效率。

高溫脫脂和預(yù)燒結(jié)爐 228     

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KT-MD 排膠預(yù)燒結(jié)一體爐廣泛應(yīng)用于各種成型工藝陶瓷材料的排膠和預(yù)燒結(jié)，如氮化鋁、氮化硅、氧化鋁、氧化鋯和介電陶瓷等精細陶瓷元件，以及陶瓷粉體材料、磁性材料、LTCC、MLCC、NTC、NFC、陶瓷磁芯等電子元件的排膠、預(yù)燒結(jié)和燒結(jié)一體化工藝。

高壓管式爐 228     

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高壓管式爐是一種專用設(shè)備，用于冶金、玻璃和熱處理等多個行業(yè)，在可控氣氛下加工材料。它采用中頻感應(yīng)加熱來達到高溫，這對粉末燒結(jié)和金屬變形校正等工藝至關(guān)重要。該爐具有可選的真空或改良氣氛設(shè)置以及用于精確控溫的高質(zhì)量加熱元件等功能，可確保樣品的完整性并防止污染。

立式管式爐 229     

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垂直管式爐是一種實驗室設(shè)備，用于在受控大氣條件下對材料進行高溫處理。它由一根垂直方向的石英管組成，石英管封閉在一個加熱室內(nèi)，可以實現(xiàn)精確的溫度控制和均勻的熱量分布。這些爐子通常用于各種應(yīng)用，包括熱處理、淬火、退火、晶體生長和化學氣相沉積（CVD）涂層。立式管式爐具有可編程溫度控制器、真空密封功能和用于樣品處理的專用附件等先進功能，為材料加工提供了多功能性和精確性。垂直管式爐能夠產(chǎn)生可控氣氛并達到高溫，是研發(fā)、材料科學和工業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域的重要工具。

加熱管爐 230     

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RTP 快速加熱管爐可在極短的時間內(nèi)加熱到目標高溫。它廣泛應(yīng)用于通過 CVD 解決方案對大尺寸石墨烯袍進行加熱處理。通過不同的真空泵站設(shè)置，RTP 快速加熱管爐可在可控氣氛環(huán)境和高真空環(huán)境下工作，創(chuàng)建理想的熱處理室。最高加熱速度可達每秒 100℃，最高冷卻速度可達每秒 110℃。它有一個用于固定爐管法蘭的滑軌，方便將爐管從加熱保溫室中抽出。溫度傳感器與樣品架接觸，可獲得更精確的溫度控制和指示。

多區(qū)管式爐 227     

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多區(qū)管式爐是一種多功能實驗室設(shè)備，專為高溫應(yīng)用而設(shè)計。它具有多個獨立控制的加熱區(qū)，可實現(xiàn)精確的溫度梯度或均勻加熱。管式爐通常配備高純度石英管或氧化鋁管，用于盛放樣品和加熱。

1400℃帶氧化鋁管的管式爐 163     

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帶氧化鋁管的管式爐是一種實驗室設(shè)備，用于高達 1500°C 的高溫應(yīng)用。它通常用于研究和工業(yè)環(huán)境中的各種工藝，如材料合成、化學氣相沉積、真空燒結(jié)和熱處理。該爐由一個加熱元件（通常由碳化硅（SiC）制成）和一個氧化鋁陶瓷管組成。氧化鋁管具有出色的隔熱性能和耐高溫、耐酸堿性。

1200℃ 帶石英管的分體式管式爐 219     

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帶石英管的 1200℃ 分管爐是一種高溫實驗室設(shè)備，設(shè)計用于在惰性氣氛中進行精確熱處理。它配備了 30 段可編程溫度控制器，加熱和冷卻速度可達每分鐘 15°C。該爐的適用溫度高達 1200°C，包括一個真空泵和氧化鋁陶瓷端塞等附件，可實現(xiàn)均勻的溫度分布。非常適合需要可控環(huán)境和高溫的研究和測試。

氫氣氣氛爐 228     

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氫氣氣氛爐的結(jié)構(gòu)采用了加熱室整體真空密封技術(shù)，隔熱室和加熱元件均內(nèi)置在一個加強型真空室中，其結(jié)構(gòu)類似于真空手套箱的設(shè)計，操作人員可使用真空泵將室內(nèi)空氣吸盡，直至負壓為-0.1Mpa，然后將惰性氣體涌入室內(nèi)，以達到良好的可控氣氛環(huán)境。KT-AH 型氫氣氣氛爐是一種感應(yīng)氣體氣氛爐，可使用氫氣進行燒結(jié)或退火工藝。氫氣爐的絕緣材料為多晶陶瓷纖維，加熱元件為高純度鉬絲加熱器，爐內(nèi)裝有氫氣安全泄漏檢測器和排放氫氣自動點火裝置。

1200℃ 可控氣氛爐 239     

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可控氣氛爐是一種可將一種或多種氣體引入加熱室的爐子，這些氣體可與被加熱材料發(fā)生反應(yīng)，使其免受空氣中氧氣和水蒸氣的影響。這種爐子有多種用途，包括熱處理、釬焊、焊接和退火。

網(wǎng)帶式可控氣氛爐 217     

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網(wǎng)帶式可控氣氛爐是一種可在露天和可控氣氛環(huán)境中工作的連續(xù)式生產(chǎn)爐。它主要用于厚膜電路、電阻器、電容器和電感器等電子元件的高溫燒結(jié)工藝。該爐采用精選陶瓷纖維加熱器，反應(yīng)迅速，溫度均勻；采用輕質(zhì)陶瓷纖維隔熱材料，能耗低；采用網(wǎng)帶傳動系統(tǒng)，傳動穩(wěn)定；采用多獨立溫度熱區(qū)控制，調(diào)節(jié)靈活。它還可選配網(wǎng)帶超聲波清洗系統(tǒng)和中央計算機控制裝置。該爐可進行定制，以滿足特定的工藝要求，包括氣氛、溫度和產(chǎn)量。

火花等離子燒結(jié)爐 SPS 爐 238     

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火花等離子燒結(jié)（SPS）是一種快速材料制備方法，它利用脈沖電流直接在模具中燒結(jié)材料。它將等離子活化、熱壓和電阻加熱結(jié)合在一起，與傳統(tǒng)燒結(jié)方法相比具有多項優(yōu)勢。SPS 能夠?qū)崿F(xiàn)均勻加熱、高加熱率、低燒結(jié)溫度、短燒結(jié)時間和高生產(chǎn)效率。此外，它還能凈化表面，抑制晶粒生長，有利于生產(chǎn)出均勻、可控的結(jié)構(gòu)。與傳統(tǒng)燒結(jié)法相比，SPS 具有環(huán)保、成本效益高、操作時間短等優(yōu)點。

熱壓爐 282     

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真空熱壓爐是在真空或大氣條件下對材料進行加熱和加壓的成套設(shè)備。根據(jù)材料和加熱溫度的不同，加熱元件可采用石墨加熱器、鉬加熱器、感應(yīng)加熱等；加壓方式可采用單向或雙向液壓加壓。

傾斜旋轉(zhuǎn)式管式爐設(shè)備 229     

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KT-PE16 傾斜旋轉(zhuǎn)式 PECVD 爐 PECVD 爐由一個 500W 射頻等離子源、一個雙區(qū) TF-1200 管式爐、4 個 MFC 氣體精確控制單元和一個標準真空站組成。爐子的最高工作溫度可達 1600℃。工作溫度高達 1600℃，爐管為直徑 60mm 的 Al2O2 陶瓷管；4 通道 MFC 質(zhì)量流量計，氣源為 CH4、H2、O2 和 N2；真空站為 1 臺 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力為 10Pa。

帶液體氣化器的滑動 PECVD 管式爐 186     

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KT-PE12 帶液體氣化器的滑動 PECVD 系統(tǒng)由一個 500W 射頻等離子源、一個 TF-1200 滑動爐、4 個 MFC 氣體精確控制單元和一個標準真空站組成。爐腔軌道滑動系統(tǒng)，可實現(xiàn)快速加熱和快速冷卻，可選配輔助強制空氣循環(huán)風扇，加快冷卻速度；可選配滑動自動工作裝置；最高工作溫度可達 1200℃。工作溫度最高可達 1200℃，爐管為一根直徑 60 毫米的石英管；4 通道 MFC 質(zhì)量流量計，氣源為 CH4、H2、O2 和 N2；真空站為一臺 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力可達 10P。真空壓力可達 10Pa。