鋁合金表面處理噴砂機 364     

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這款鋁合金表面處理噴砂機主要是適用于金屬表面的的噴砂加工要求，清理外表的污垢，劃痕及其他雜物，使表面達到啞光狀態(tài)，同樣可以用于其他的鍛鑄件、焊接件、熱處理件、沖壓殲擊機加工件、電子件的外表除銹、去氧化皮表面光亮及獲得均勻的噴砂面和增加表面附著力或用于噴涂、電鍍、油漆前的預(yù)處理的工序。

銅輥清理噴砂機 124     

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北京中航技氣動液壓設(shè)備有限責任公司銅輥清理噴砂機詳細參數(shù)：■ 無塵環(huán)保設(shè)計 漆皮、氧化皮、砂塵、銹污自動回收分離，磨料循環(huán)使用?！?車試結(jié)構(gòu)設(shè)計 能量損耗在工作中減小，大幅降低運行成本?！?自動震打裝置 可自動清除濾芯灰塵，保護濾芯壽命?！?表面處理等級 可達Sa2.5-3級。

金屬表面清理噴砂機 356     

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北京中航技氣動液壓設(shè)備有限責任公司金屬表面清理噴砂機詳細參數(shù)：工作方式：普壓單人手動控制噴砂，輸入電源：220V，工作壓力：4-7㎏/cm2，耗 氣 量：1-1.5m3/min，除塵功率：550W，照明功率：1*20W，電力電壓：交流24V。

銅鋁表面清理噴砂機 352     

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北京中航技氣動液壓設(shè)備有限責任公司銅鋁表面清理噴砂機技術(shù)參數(shù)：輸入電源：220V 50Hz，工作壓力：2-7㎏/cm2，耗 氣 量：1-3m3/min，除塵功率：550W，照明功率：1*18W，電力電壓：交流220V，氣源連接管徑：直徑13mm。

鋁型材表面清理噴砂機 360     

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北京中航技氣動液壓設(shè)備有限責任公司鋁型材表面清理噴砂機特點如下：1、磨料循環(huán)使用，消耗低，效率高。2、配有除塵機組，有效控制粉塵的污染。3、配有觀察玻璃，更換方便。4、易損件數(shù)量少，維修、更換簡單。5、加工范圍廣，適用于規(guī)格中小型的零部件。

鈦合金鋼清理噴砂機 358     

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輸送式自動噴砂機是針對面板類工件自動噴砂加工而設(shè)計制作的噴砂設(shè)備。原理是利用壓縮空氣在噴槍內(nèi)高速流動產(chǎn)生的負壓引射作用，將磨料(噴砂介質(zhì))通 過砂管引入噴槍，隨氣流高速噴射到工件表面，實現(xiàn)噴砂效果。

鋁板表面清理噴砂機 354     

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本機適用于金屬表面的的噴砂加工要求，外表的污垢，劃痕及其他雜物，使表面達到啞光狀態(tài)，同樣可以用于其他的鍛鑄件、焊接件、熱處理件、沖壓殲擊機加工件、電子件的外表除銹、去氧化皮表面光亮及獲得均勻的噴砂面和增加表面附著力或用于噴涂、電鍍、油漆前的預(yù)處理的工序。

鋁板噴砂機 357     

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原理是利用壓縮空氣在噴槍內(nèi)高速流動產(chǎn)生的負壓引射作用，將磨料(噴砂介質(zhì))通 過砂管引入噴槍，隨氣流高速噴射到工件表面，實現(xiàn)噴砂效果。

鋁合金噴砂設(shè)備 350     

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北京中航技氣動液壓設(shè)備有限責任公司鋁合金噴砂設(shè)備特點如下：1、磨料循環(huán)使用，消耗低，效率高。2、配有除塵機組，有效控制粉塵的污染。3、配有觀察玻璃，更換方便。4、易損件數(shù)量少，維修、更換簡單。5、加工范圍廣，適用于規(guī)格中小型的零部件。

熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng) 171     

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DE400 熱阻蒸發(fā)儀可配置多組蒸發(fā)源，連續(xù)旋轉(zhuǎn)的樣品臺或可傾角自轉(zhuǎn)樣品臺。

多電子槍蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) 174     

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DE600CL 多電子槍蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)配置三（四或六）個電子束蒸發(fā)源，可在基片共蒸發(fā)金屬、半導(dǎo)體或介質(zhì)材料。

中試-量產(chǎn) 電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) 169     

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DE500P 電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)配置兩個電子束蒸發(fā)源，可在基片共蒸發(fā)沉積金屬、半導(dǎo)體或介質(zhì)材料。

雙電子槍共蒸鍍膜系統(tǒng) 191     

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DE500CL 雙電子槍共蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)配置兩個電子束蒸發(fā)源，可在基片共蒸發(fā)沉積金屬、半導(dǎo)體或介質(zhì)材料，是制備lift-off工藝薄膜和低微材料的理想平臺。

中試-量產(chǎn) 電子束蒸鍍機 192     

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DE400P電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)配備電子束蒸發(fā)源或熱阻蒸發(fā)源，用于沉積金屬或介質(zhì)薄膜及l(fā)ift-off工藝薄膜沉積。用于批量生產(chǎn)。

超高真空電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) 186     

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DE400DUL超高真空電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)配置一個多坩堝電子束蒸發(fā)源，可在基片蒸發(fā)沉積金屬、半導(dǎo)體或介質(zhì)材料，是制備lift-off工藝薄膜和低微材料的理想平臺。

電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) 188     

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DE400DHL電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)配置一個多坩堝電子束蒸發(fā)源，可在基片蒸發(fā)沉積金屬、半導(dǎo)體或介質(zhì)材料，是制備lift-off工藝薄膜和低微材料的理想平臺。

多腔體磁控濺射系統(tǒng) 247     

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特點：適用于科研、中試和量產(chǎn)，濺射室單靶或多靶，金屬、介質(zhì)材料濺射，可選RF等離子體或離子源基片清洗。

中試-量產(chǎn) 磁控濺射系統(tǒng) 248     

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特點：用于中試和量產(chǎn)，多個濺射源，可濺射金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)材料及磁性材料，可濺射單層膜、多層膜或共濺合金薄膜或反應(yīng)濺射。

納米膜層磁控濺射系統(tǒng) 161     

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DE600DL納米膜層磁控濺射系統(tǒng)配備多個磁控濺射源，可沉積金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)材料. 可用于濺射多層薄膜、共濺合金薄膜、反應(yīng)濺射、可選濺射楔形膜等。是材料和薄膜沉積研發(fā)和中試的理想平臺。

超導(dǎo)量子磁控濺射系統(tǒng) 188     

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DE500DL超導(dǎo)量子磁控濺射系統(tǒng)配備多個磁控濺射源，可沉積金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)材料. 可用于濺射多層薄膜、共濺合金薄膜、反應(yīng)濺射、LIFT-OFF工藝薄膜、隧道結(jié)薄膜等。是材料和薄膜沉積研發(fā)和中試的理想平臺。

納米膜層磁控濺射系統(tǒng) 182     

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DE500DL納米膜層磁控濺射系統(tǒng)配備多個磁控濺射源，可沉積金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)材料. 可用于濺射多層薄膜、共濺合金薄膜、反應(yīng)濺射、可選濺射楔形膜等。是材料和薄膜沉積研發(fā)和中試的理想平臺。

制氫加氫一體站 364     

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制儲加一體化示范站：湖南500Kg制氫加氫一體站，堿性電解槽系統(tǒng)：200Nm3/h，氫氣加注系統(tǒng)：500Kg/d，儲氫瓶組：580kg，適用工況：氫燃料汽車加注。

加氫裝備 356     

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SHJQ3505YQA加氫裝備，排量：≥1000 Nm3/h@12.5Mpa，排氣壓力：45Mpa，主電機功率：110kW，適用工況：氫燃料汽車加注。

200標方PEM電解槽 384     

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200標方PEM電解槽SHZP-200，氫氣產(chǎn)量：200Nm3/h，直流電耗：4.3kWh/Nm3，提純后氫氣純度：≥99.999%，適用工況：化工冶金、能源交通。

2000標方堿性電解水制氫裝置 385     

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2000標方堿性電解水制氫裝置SHZJ-2000，氫氣產(chǎn)量：2000Nm3/h，直流電耗：4.5~4.7kWh/Nm3，提純后氫氣純度：≥99.999%，適用工況：化工冶金、能源交通。

四合一堿性電解水制氫裝置 378     

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SHZA4000GA四合一堿性電解水制氫裝置：氫氣產(chǎn)量：4000~4800Nm3/h，直流電耗：4.4kWh/Nm3，提純后氫氣純度：≥99.999%，適用工況：化工冶金、能源交通。

高速切疊一體機 333     

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三一集團有限公司TESS48高速切疊一體機，疊片效率：0.125s/p;下料輔助時間：≤6s;額定功率：145kW。

真空氬氣保護焊接艙 206     

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真空氬氣保護焊接艙：普通零件及復(fù)雜密封箱形零件的焊接。

單邊跌落試驗機 369     

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單邊跌落試驗機 WH-2109-A測試對象：手機/平板測試/電腦測試/穿戴測試/顯示屏測試/鋰電池測試，類別：沖擊測試/壽命測試，產(chǎn)品特點：電機驅(qū)動升降控制跌落高度，定位準確，可自動切換規(guī)則樣品的四邊；兩種跌落模式，可以重復(fù)升降跌落也可以重復(fù)翻轉(zhuǎn)跌落(建議用重復(fù)翻轉(zhuǎn)模式效率高)。

全自動定向跌落試驗機 383     

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全自動定向跌落試驗機WH-2116-B，產(chǎn)品型號：WH-2116-B，產(chǎn)品應(yīng)用：設(shè)備用于評估電池在一定高度和角度下跌落受到?jīng)_擊時，檢測電芯內(nèi)阻和電壓以及溫度的變化，適用于3C電子產(chǎn)品電池的空間任意角度的跌落測試。