1700℃立式高溫管式爐 379     

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1700℃立式高溫管式爐GSL-1700X-80VT采用硅鉬棒進行加熱，最高溫度可以達到1700℃，專門針對于材料在真空或氣氛保護環(huán)境下的燒結。溫控系統(tǒng)采用PID控制器，可設置30段升降溫程序，控溫精度為± 1℃。

1200℃三溫區(qū)可傾斜旋轉爐 297     

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1200℃三溫區(qū)可傾斜旋轉爐OTF-1200X-5L-R-III主要針對于粉料的混燒，爐管可360°轉動，且內部設有4片揚料板，可增加粉料燒結的均勻性，因而適合于實驗室中較多粉料的燒結，特別是鋰電材料的燒結，如LiFePO3、LiMnNiO3等。

真空熱壓爐 422     

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OTF-1200X-VHP4真空熱壓爐配有?4"石英管、20T電動壓力機，可以加熱到1100℃，帶水冷的法蘭可使真空度達到10-5torr（用分子泵），在5T壓力下可鍵合多層基片，是在真空高壓下制備致密化合物材料的理想設備。

1200℃立式真空小管式爐 294     

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1200℃立式真空小管式爐OTF-1200X-S-VT是一款小型開啟式立式管式爐，適合于對樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下吊燒和淬火。采用PID控制器進行溫度調節(jié)，可設置30段升降溫程序，控溫精度為± 1℃。

混氣系統(tǒng)4路質子 277     

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混氣系統(tǒng)4路質子GSL-4Z是用于控制一種到四種的氣體流經真空密封的管式爐，這種氣體控制系統(tǒng)安裝在移動架內，管式爐可以放在移動架上面，氣體控制系統(tǒng)的前面板上有控制并顯示氣體流量的調節(jié)閥，可以用于CVD系統(tǒng)及退火爐，用來研究氣體環(huán)境對材料的影響，在半導體和集成電路工業(yè)、特種材料學科、化學工業(yè)、石油工業(yè)、醫(yī)藥、環(huán)保和真空等多種領域的科研和生產中有著重要的作用，廣泛應用于電子工藝設備，如擴散、氧化、外延、CVD、等離子濺射以及鍍膜設備、光纖熔煉、混氣配氣系統(tǒng)及其它分析儀器。

高真空鉭加熱爐 289     

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高真空鉭加熱爐是高溫電阻加熱爐。以鉭為加熱元件，適用于高真空狀態(tài)下對金屬、非金屬及其化合物進行燒結、熔化，也可以對小型樣品進行真空釬焊的操作，如硬質合金、鎳基合金、粉末冶金、鎳鈷合金、合金鋼、不銹鋼、稀土釹鐵錋等。高真空鉭加熱爐極限工作溫度為2000℃，工作最高溫度1800℃，工作過程中的加熱速度可以通過溫控表進行設置，但升溫速度過快會使鉭爐膽的壽命會有所降低，為了延長爐子的使用壽命，推薦每分鐘的升溫速度為20℃，在500℃以下可以適當加快升溫速度。

1200℃開啟式雙溫區(qū)管式爐 278     

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1200℃開啟式雙溫區(qū)管式爐OTF-1200X-II最高溫度可達到1200℃，并可通過調節(jié)兩個獨立的控溫程序，使爐管內溫度場形成一梯度。本機可用CVD方法來生長納米材料和制作各種薄膜。

1200℃單管滑動快速加熱冷卻爐 280     

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1200℃單管滑動快速加熱冷卻爐OTF-1200X-80SL底部安裝一對滑軌，可手動進行爐體移動，最高工作溫度達1200℃，加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環(huán)境下可以達到10℃/s。為獲得最快加熱，可預先加熱爐子到設定的溫度，然后移動爐子到樣品位置；為獲得最快冷卻，可在樣品加熱后移動爐子至另一端，本機是低成本進行快速熱處理的理想設備。

1500℃三溫區(qū)開啟式管式爐 215     

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1500℃三溫區(qū)開啟式管式爐OTF-1500X-III是高溫管式爐，最高溫度可達1500℃，三個溫區(qū)分別用三個獨立的溫控系統(tǒng)控制，每個溫區(qū)都可以設置30段升降溫程序，并設有過熱和斷偶保護功能，控溫精度高達±1℃。本機特別適合于在氣氛保護或真空環(huán)境下對樣品進行退火和燒結。

微波氣氛燒結爐 385     

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QS型微波氣氛燒結爐是標準化多功能微波高溫實驗工作站，適用于各種氣氛、真空條件下的合成、焙燒、熱處理、燒結等工藝研究。

真空感應熔煉爐 492     

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真空感應熔煉爐SP-15VIM適用于大專院校、研究所實驗室小量金屬樣品的迅速融化，是研制新型金屬材料的理想工具。

微波高溫管式爐 405     

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LZG型微波高溫管式爐是標準化多功能微波立式氣氛管式爐，適用于各種氣氛、真空條件下的合成、焙燒、熱處理、燒結等工藝研究，尤其適用于各種氣固相、氣相反應、合成反應、分解反應等。

小型鈦金屬反應釜 284     

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RC-Ti-100小型鈦金屬反應釜是由純鈦金屬制作而成，最大可耐4Mpa的壓力，是制備先進材料，尤其是水熱法合成生物材料的理想工具。

800℃高壓爐 408     

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800℃高壓爐OTF-1200X-HVHP-80是高溫高壓管式爐，爐管采用 SS310S鎳基合金鋼制作而成，兩端配有法蘭和閥門，專為在105 PSI高壓下使用，可在通入氧化或惰性氣體的氣氛下，處理特殊的化合物。

微波管式爐 300     

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ZG型微波管式爐是標準化多功能微波管式實驗工作站，適用于各種氣氛條件下的合成、焙燒、熱處理、燒結等工藝研究。

1200℃開啟式立式爐 395     

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1200℃開啟式立式爐OTF-1200X-80-VT是可垂直開啟式管式氣氛爐，能夠實現(xiàn)在真空或氣氛保護條件下對樣品快速升降溫。本機可垂直安裝在可移動的支架上，方便爐管的取放。

1700℃8升氫氣爐 404     

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KSL-1700X-H2 是一款通過 CE 認證的高溫箱式爐，此款儀器專門針對于材 料在氫氣環(huán)境或惰性氣體環(huán)境進行燒結或是退火，其最高溫度可高達 1700℃。 KSL-1700X-H2采用氧化鋁纖維作為爐膛材料（爐膛尺寸為200 x 200 x 200 mm）， 以鉬絲作為加熱元件，爐體頂部密封板中嵌有冷卻水管，以保證儀器工作時的密 封性能。對需在惰性氣體或還原性氣體環(huán)境下燒結的材料（如熒光材料，鈦合金 等），KSL-1700X-H2 是一個非常好的選擇。

雙管滑動快速加熱冷卻爐 222     

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雙管滑動快速加熱冷卻爐OTF-1200X-4-C4LVS是特殊的雙管CVD系統(tǒng)，是專為在金屬箔上生長薄膜而設計的，特別適用于新一代能源——柔性金屬箔電極方面的研究。本機可通過滑動爐體，實現(xiàn)快速加熱和冷卻。

軌道箱式爐 303     

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軌道箱式爐KSL-1400X以硅碳棒為加熱元件，可控硅、708P智能溫度調節(jié)儀和S型單鉑銠熱電偶配套使用，由此進行對爐膛內部溫度的測溫調節(jié)、自動控制。爐膛最高溫度為1300℃。采用兩面軌道開門，方便使用。

1800℃小型箱式爐(1.7L) 280     

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1800℃小型箱式爐（1.7L）KSL-1800X-S是一款微型箱式爐，采用Kanthal Super-1900型硅鉬棒和氧化鋯內襯爐膛，可在1750℃下連續(xù)使用，最高溫度可達1800℃。本機具有體積小巧、節(jié)約能源的優(yōu)點，下開式爐門更易于樣品裝載，并加裝通氣口，可在氧氣或惰性氣氛下操作使用。

微波真空燒結爐 291     

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ZK型微波真空燒結爐是標準化多功能微波高溫真空實驗工作站，適用于各種氣氛條件下的合成、焙燒、熱處理、燒結等工藝研究。尤能實現(xiàn)微波真空合成或燒結，并可對易受氣氛影響的實驗提供更為精細的氣氛控制。

微波氣氛實驗爐 280     

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QS型微波氣氛實驗爐是標準化多功能微波高溫實驗工作站，具有快速抽真空、可控多氣氛及高溫的實驗條件，適用于各類材料的煅燒、焙燒、燒結、灰化、焚化、熔融及熱處理等。

氣氛保護連續(xù)鑄造爐 269     

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IMCS-1500RC-1500℃氣氛保護連續(xù)鑄造爐是一款感應加熱的連續(xù)鑄造爐，可在氣氛保護環(huán)境下各種合金進行熔煉和連續(xù)鑄造，可鑄造出棒材，管材和金屬板材，最高熔煉溫度可達1500℃。

1700℃箱式爐(3.4L) 276     

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1700℃箱式爐（3.4L）KSL-1700X-A1采用側開式爐門，以硅鉬棒為加熱元件，智能溫度調節(jié)儀和B型雙鉑銠熱電偶配套使用，對爐內溫度進行測溫調節(jié)和自動控制，最高工作溫度可達1700℃。

1200℃雙溫立式爐 275     

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1200℃雙溫立式爐OTF-1200X-4-VT-II是雙溫區(qū)可垂直開啟式立式管式爐，其爐管直徑可制作為100mm，適合于在真空或氣氛保護環(huán)境下對樣品進行吊燒和淬火。爐體下端裝有一移動架，以便移動。

1400℃雙溫區(qū)真空氣氛管式爐 264     

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1400℃雙溫區(qū)真空氣氛管式爐GSL-1400X-II以硅碳棒為加熱元件，采用S型單鉑銠熱電偶測溫和518P溫控儀自動控溫。本機設有真空裝置，可在多種氣氛下工作，主要用于電子陶瓷產品的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（CVD）等工藝，特別適合批量生產使用。

2100℃高溫鎢加熱爐 275     

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2100℃高溫鎢加熱爐HVF-2100W-60適用于高真空狀態(tài)下對金屬、非金屬及其化合物進行燒結、熔化，也可以對小型樣品進行真空釬焊的操作，如硬質合金、鎳基合金、粉末冶金、鎳鈷合金、合金鋼、不銹鋼、稀土釹鐵錋等。2100℃高溫鎢加熱爐HVF-2100W-60工作過程中的加熱速度可以通過溫控表進行設置，但升溫速度過快對鎢爐膽的壽命會有所降低，為了延長爐子的使用壽命，每分鐘的升溫速度不宜超過40℃。

1200℃單溫區(qū)開啟式真空管式爐 394     

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1200℃單溫區(qū)開啟式真空管式爐OTF-1200X是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)，在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下，對金屬、非金屬及其它化合物進行燒結、熔化、分析而研制的專用設備。

1700℃箱式爐(36L) 312     

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1700℃箱式爐（36L）KSL-1700X-A4采用側開式爐門，以硅鉬棒為加熱元件，智能溫度調節(jié)儀和B型雙鉑銠熱電偶配套使用，對爐內溫度進行測溫調節(jié)和自動控制，最高工作溫度可達1700℃，與同系列其他型號相比，具有更大的有效爐膛。

磁懸浮真空熔煉爐 390     

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磁懸浮真空熔煉爐FMF-40適合研究鐵磁材料，利用40KW高頻電感應加熱器和特殊研制的水冷銅坩堝，在加熱融化的同時使真空石英管底部產生磁力將鐵磁合金樣品懸浮起來。因此，本機可以在清潔的環(huán)境下生產出高純度的鐵或磁性合金。