高真空多源熱蒸發(fā)設(shè)備是一種基于電阻加熱原理的物理氣相沉積(PVD)設(shè)備，通過(guò)多個(gè)獨(dú)立可控蒸發(fā)源(通常2-14個(gè))，在高真空環(huán)境(10??~10?? Pa)下實(shí)現(xiàn)：

單質(zhì)/合金薄膜的共蒸

多層復(fù)合結(jié)構(gòu)沉積

梯度成分材料制備

真空：極限真空6*10 -5 帕

工作真空6*10 -4 帕

恢復(fù)工作真空時(shí)間：連接手套箱≤10分鐘

不連接手套箱，充干燥氮?dú)狻?0分鐘

本套設(shè)備配有8個(gè)有機(jī)源及2個(gè)金屬源

金屬蒸發(fā)源和有機(jī)蒸發(fā)源可按客戶要求配置

膜厚探頭及膜厚儀有國(guó)產(chǎn)或者進(jìn)口可選

金屬蒸發(fā)源配有1000w電源

有機(jī)蒸發(fā)源配有可控溫電源，控溫精度±1℃