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真空感應(yīng)爐電源配置方法及加熱方法

180   編輯:中冶有色技術(shù)網(wǎng)   來(lái)源:北京中冶設(shè)備研究設(shè)計(jì)總院有限公司  
2025-03-03 16:38:32
權(quán)利要求

1.一種真空感應(yīng)爐電源配置方法,其特征在于,包括如下步驟:

在真空感應(yīng)爐的坩堝外側(cè)壁上,沿豎直方向排列套設(shè)至少兩個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu);

將排列設(shè)置在所述坩堝外側(cè)壁上的每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)的電源接頭引出至所述真空感應(yīng)爐的真空空間外部,并在所述真空感應(yīng)爐的外部,對(duì)應(yīng)于每個(gè)所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)均設(shè)置相應(yīng)的控制電源柜;

將每個(gè)所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)的電源接頭與所述相應(yīng)的控制電源柜的出線端連接,完成對(duì)所述真空感應(yīng)爐的電源配置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空感應(yīng)爐電源配置方法,其特征在于,所述在真空感應(yīng)爐的坩堝外側(cè)壁上,沿豎直方向排列套設(shè)至少兩個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu),包括:

根據(jù)所述坩堝的加熱位置面積和預(yù)設(shè)真空電壓限值,設(shè)計(jì)所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)在所述坩堝外側(cè)壁上的布設(shè)方案;其中,所述布設(shè)方案包括所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)的數(shù)量和每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)在所述坩堝外側(cè)壁上的位置;

根據(jù)所述布設(shè)方案,由上至下依次將所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)排列設(shè)置在所述坩堝外側(cè)壁上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空感應(yīng)爐電源配置方法,其特征在于,所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)包括一個(gè)單體IGBT或至少兩個(gè)并聯(lián)的單體IGBT或至少兩個(gè)串聯(lián)的單體IGBT。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空感應(yīng)爐電源配置方法,其特征在于,所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)包括一個(gè)可控硅真空電源感應(yīng)線圈或至少兩個(gè)并聯(lián)的可控硅真空電源感應(yīng)線圈或至少兩個(gè)串聯(lián)的可控硅真空電源感應(yīng)線圈。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空感應(yīng)爐電源配置方法,其特征在于,在所述可控硅真空電源感應(yīng)線圈的外部設(shè)置有磁軛。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空感應(yīng)爐電源配置方法,其特征在于,

當(dāng)所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)包括至少兩個(gè)并聯(lián)的可控硅真空電源感應(yīng)線圈或至少兩個(gè)串聯(lián)的可控硅真空電源感應(yīng)線圈時(shí),每個(gè)所述可控硅真空電源感應(yīng)線圈到相應(yīng)的控制電源柜的輸出阻抗相同。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空感應(yīng)爐電源配置方法,其特征在于,所述將排列設(shè)置在所述坩堝外側(cè)壁上的每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)的電源接頭引出至所述真空感應(yīng)爐的真空空間外部,包括:

將所述每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)的接頭作為電源接頭由所述真空感應(yīng)爐的真空密封法蘭板引出至所述真空感應(yīng)爐的真空空間外部。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空感應(yīng)爐電源配置方法,其特征在于,所述將排列設(shè)置在所述坩堝外側(cè)壁上的每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)的電源接頭引出至所述真空感應(yīng)爐的真空空間外部,包括:

將所述每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)的接頭與水冷電纜的一端連接,并將所述水冷電纜的另一端作為電源接頭;

將所述電源接頭由所述真空感應(yīng)爐的真空密封法蘭板引出至所述真空感應(yīng)爐的真空空間外部。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空感應(yīng)爐電源配置方法,其特征在于,在所述對(duì)應(yīng)于每個(gè)所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)均設(shè)置相應(yīng)的控制電源柜的過(guò)程中,

每個(gè)所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)對(duì)應(yīng)一個(gè)相應(yīng)的控制電源柜;

所述控制電源柜包括柜體和設(shè)置在所述柜體內(nèi)部的變壓器、整流器、以及逆變器;其中,所述變壓器與輸電線連接,所述整流器與所述變壓器連接,在所述整流器與所述變壓器之間設(shè)置有開(kāi)關(guān),所述逆變器與所述整流器連接,在所述逆變器的輸出側(cè)連接有出線端。

10.一種真空感應(yīng)爐的加熱方法,其特征在于,采用如權(quán)利要求1-9任意一項(xiàng)所述的真空感應(yīng)爐電源配置方法對(duì)真空感應(yīng)爐的加熱位置進(jìn)行加熱電源配置,并基于預(yù)設(shè)加熱工藝要求,通過(guò)所述控制電源柜對(duì)相應(yīng)的獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)進(jìn)行獨(dú)立控制,直至完成所述真空感應(yīng)爐的加熱工藝。

說(shuō)明書(shū)

技術(shù)領(lǐng)域

[0001]本發(fā)明涉及冶金設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,更為具體地,涉及一種真空感應(yīng)爐電源配置方法及加熱方法。

背景技術(shù)

[0002]工業(yè)應(yīng)用一般需要大功率真空電源,目前真空感應(yīng)電源最大約12500KW,但是,其電壓不宜超過(guò)950-1250V,電壓再大會(huì)發(fā)生輝光放電,使設(shè)備無(wú)法正常工作,同時(shí)功率加大會(huì)導(dǎo)致電流迅速增大而超過(guò)感應(yīng)銅管的極限,并且,當(dāng)真空電壓高于950伏時(shí)發(fā)生真空電暈或極間起火現(xiàn)象,由此極大地限制了真空電源的大型化。

[0003]目前,在真空感應(yīng)爐的實(shí)際應(yīng)用中,對(duì)于需要單爐功率更大的情況,現(xiàn)有技術(shù)中的可控硅或IGBT電源無(wú)法滿足大功率要求。

[0004]需要說(shuō)明的是:在上述背景技術(shù)部分公開(kāi)的信息僅用于加強(qiáng)對(duì)本發(fā)明的背景的理解,因此可以包括不構(gòu)成對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的現(xiàn)有技術(shù)的信息。

發(fā)明內(nèi)容

[0005]鑒于上述問(wèn)題,本發(fā)明的目的是提供一種真空感應(yīng)爐電源配置方法及加熱方法,以解決現(xiàn)有技術(shù)中,在真空感應(yīng)爐的實(shí)際應(yīng)用中,對(duì)于需要單爐功率更大的情況,現(xiàn)有的可控硅或IGBT電源無(wú)法滿足大功率要求的問(wèn)題。

[0006]本發(fā)明提供一種真空感應(yīng)爐電源配置方法,包括如下步驟:

[0007]在真空感應(yīng)爐的坩堝外側(cè)壁上,沿豎直方向排列套設(shè)至少兩個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu);

[0008]將排列設(shè)置在所述坩堝外側(cè)壁上的每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)的電源接頭引出至所述真空感應(yīng)爐的真空空間外部,并在所述真空感應(yīng)爐的外部,對(duì)應(yīng)于每個(gè)所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)均設(shè)置相應(yīng)的控制電源柜;

[0009]將每個(gè)所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)的電源接頭與所述相應(yīng)的控制電源柜的出線端連接,完成對(duì)所述真空感應(yīng)爐的電源配置。

[0010]此外,優(yōu)選的方案是,所述在真空感應(yīng)爐的坩堝外側(cè)壁上,沿豎直方向排列套設(shè)至少兩個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu),包括:

[0011]根據(jù)所述坩堝的加熱位置面積和預(yù)設(shè)真空電壓限值,設(shè)計(jì)所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)在所述坩堝外側(cè)壁上的布設(shè)方案;其中,所述布設(shè)方案包括所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)的數(shù)量和每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)在所述坩堝外側(cè)壁上的位置;

[0012]根據(jù)所述布設(shè)方案,由上至下依次將所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)排列設(shè)置在所述坩堝外側(cè)壁上。

[0013]此外,優(yōu)選的方案是,所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)包括一個(gè)單體IGBT或至少兩個(gè)并聯(lián)的單體IGBT或至少兩個(gè)串聯(lián)的單體IGBT。

[0014]此外,優(yōu)選的方案是,所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)包括一個(gè)可控硅真空電源感應(yīng)線圈或至少兩個(gè)并聯(lián)的可控硅真空電源感應(yīng)線圈或至少兩個(gè)串聯(lián)的可控硅真空電源感應(yīng)線圈。

[0015]此外,優(yōu)選的方案是,在所述可控硅真空電源感應(yīng)線圈的外部設(shè)置有磁軛。

[0016]此外,優(yōu)選的方案是,當(dāng)所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)包括至少兩個(gè)并聯(lián)的可控硅真空電源感應(yīng)線圈或至少兩個(gè)串聯(lián)的可控硅真空電源感應(yīng)線圈時(shí),每個(gè)所述可控硅真空電源感應(yīng)線圈到相應(yīng)的控制電源柜的輸出阻抗相同。

[0017]此外,優(yōu)選的方案是,所述將排列設(shè)置在所述坩堝外側(cè)壁上的每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)的電源接頭引出至所述真空感應(yīng)爐的真空空間外部,包括:

[0018]將所述每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)的接頭作為電源接頭由所述真空感應(yīng)爐的真空密封法蘭板引出至所述真空感應(yīng)爐的真空空間外部。

[0019]此外,優(yōu)選的方案是,所述將排列設(shè)置在所述坩堝外側(cè)壁上的每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)的電源接頭引出至所述真空感應(yīng)爐的真空空間外部,包括:

[0020]將所述每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)的接頭與水冷電纜的一端連接,并將所述水冷電纜的另一端作為電源接頭;

[0021]將所述電源接頭由所述真空感應(yīng)爐的真空密封法蘭板引出至所述真空感應(yīng)爐的真空空間外部。

[0022]此外,優(yōu)選的方案是,在所述對(duì)應(yīng)于每個(gè)所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)均設(shè)置相應(yīng)的控制電源柜的過(guò)程中,

[0023]每個(gè)所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)對(duì)應(yīng)一個(gè)相應(yīng)的控制電源柜;

[0024]所述控制電源柜包括柜體和設(shè)置在所述柜體內(nèi)部的變壓器、整流器、以及逆變器;其中,所述變壓器與輸電線連接,所述整流器與所述變壓器連接,在所述整流器與所述變壓器之間設(shè)置有開(kāi)關(guān),所述逆變器與所述整流器連接,在所述逆變器的輸出側(cè)連接有出線端。

[0025]本發(fā)明提供一種真空感應(yīng)爐的加熱方法,采用如上所述的真空感應(yīng)爐電源配置方法對(duì)真空感應(yīng)爐的加熱位置進(jìn)行加熱電源配置,并基于預(yù)設(shè)加熱工藝要求,通過(guò)所述控制電源柜對(duì)相應(yīng)的獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)進(jìn)行獨(dú)立控制,直至完成所述真空感應(yīng)爐的加熱工藝。

[0026]從上面的技術(shù)方案可知,本發(fā)明提供的真空感應(yīng)爐電源配置方法及加熱方法,通過(guò)在真空感應(yīng)爐的坩堝外側(cè)壁上,沿豎直方向排列套設(shè)至少兩個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu),并在真空感應(yīng)爐的外部,對(duì)應(yīng)于每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)均設(shè)置相應(yīng)的獨(dú)立的控制電源柜,獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)的電源接頭與相應(yīng)的控制電源柜的出線端連接,從而共同組成一個(gè)總電源,可滿足真空感應(yīng)爐大功率電源的需求,有效解決了現(xiàn)有技術(shù)中,因電源電壓過(guò)高而發(fā)生真空電暈放電的問(wèn)題;能夠滿足感應(yīng)線圈銅管的電流限流的技術(shù)要求;并且在安裝和拆除時(shí)可分別從真空感應(yīng)爐中吊出獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu),便于安裝、拆卸和檢修;還可根據(jù)加熱工藝要求,通過(guò)控制電源柜對(duì)相應(yīng)的獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)進(jìn)行獨(dú)立控制,從而優(yōu)化加熱工藝。

[0027]為了實(shí)現(xiàn)上述以及相關(guān)目的,本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)方面包括后面將詳細(xì)說(shuō)明的特征。下面的說(shuō)明以及附圖詳細(xì)說(shuō)明了本發(fā)明的某些示例性方面。然而,這些方面指示的僅僅是可使用本發(fā)明的原理的各種方式中的一些方式。此外,本發(fā)明旨在包括所有這些方面以及它們的等同物。

附圖說(shuō)明

[0028]通過(guò)參考以下結(jié)合附圖的說(shuō)明,并且隨著對(duì)本發(fā)明的更全面理解,本發(fā)明的其它目的及結(jié)果將更加明白及易于理解。

[0029]圖1為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的真空感應(yīng)爐電源配置方法的流程圖;

[0030]圖2為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的真空感應(yīng)爐加熱電源的結(jié)構(gòu)示意圖;

[0031]圖3為根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的真空感應(yīng)爐加熱電源的結(jié)構(gòu)示意圖;

[0032]圖4為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的真空感應(yīng)爐電源配置的原理圖。

[0033]在附圖中,1-獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu),2-控制電源柜,21-變壓器,22-整流器,23-逆變器,24-開(kāi)關(guān),31-坩堝,32-真空空間,33-真空罐,34-真空系統(tǒng),35-進(jìn)料通道,4-水冷電纜,5-輸電線。

[0034]在所有附圖中相同的標(biāo)號(hào)指示相似或相應(yīng)的特征或功能。

具體實(shí)施方式

[0035]在下面的描述中,出于說(shuō)明的目的,為了提供對(duì)一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例的全面理解,闡述了許多具體細(xì)節(jié)。然而,很明顯,也可以在沒(méi)有這些具體細(xì)節(jié)的情況下實(shí)現(xiàn)這些實(shí)施例。

[0036]針對(duì)前述提出的現(xiàn)有技術(shù)中,在真空感應(yīng)爐的實(shí)際應(yīng)用中,對(duì)于需要單爐功率更大的情況,現(xiàn)有的可控硅或IGBT電源無(wú)法滿足大功率要求的問(wèn)題,提出了一種真空感應(yīng)爐電源配置方法及加熱方法。

[0037]以下將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)描述。

[0038]為了說(shuō)明本發(fā)明提供的真空感應(yīng)爐電源配置方法及加熱方法,圖1示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的真空感應(yīng)爐電源配置方法的流程;圖2示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的真空感應(yīng)爐加熱電源的結(jié)構(gòu);圖3示出了根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的真空感應(yīng)爐加熱電源的結(jié)構(gòu);圖4示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的真空感應(yīng)爐電源配置的原理。

[0039]如圖1至圖4共同所示,本發(fā)明提供的真空感應(yīng)爐電源配置方法,包括如下步驟:

[0040]步驟S1、在真空感應(yīng)爐的坩堝3外側(cè)壁上,沿豎直方向排列套設(shè)至少兩個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1;

[0041]步驟S2、將排列設(shè)置在坩堝31外側(cè)壁上的每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1的電源接頭引出至真空感應(yīng)爐的真空空間32外部,并在真空感應(yīng)爐的外部,對(duì)應(yīng)于每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1均設(shè)置相應(yīng)的控制電源柜2;

[0042]步驟S3、將每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1的電源接頭與相應(yīng)的控制電源柜2的出線端連接,完成對(duì)真空感應(yīng)爐的電源配置。

[0043]需要說(shuō)明的是:本發(fā)明中的真空感應(yīng)爐的主體結(jié)構(gòu)為現(xiàn)有技術(shù)中的成熟結(jié)構(gòu),其包括真空罐33,在真空罐33上開(kāi)設(shè)有真空連接孔,以與真空系統(tǒng)34連接,從而使真空罐33的內(nèi)部形成真空空間32。在真空空間32內(nèi)設(shè)置有坩堝31,在坩堝31的外部通過(guò)圍設(shè)電加熱機(jī)構(gòu)以使坩堝31具有加熱功能,目前現(xiàn)有技術(shù)中,一般在坩堝31的外部通過(guò)連接一整個(gè)加熱電源(可控硅或IGBT電源)對(duì)坩堝31進(jìn)行加熱,由于真空電壓的限制,因此,限制了真空電源的大型化。對(duì)于需要單爐功率更大的情況,現(xiàn)有技術(shù)中的可控硅或IGBT電源無(wú)法滿足大功率要求。由此,本發(fā)明通過(guò)將數(shù)個(gè)成熟安全的單獨(dú)電源(獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu))應(yīng)用到一個(gè)坩堝31上,從而構(gòu)成真空大型電源,以滿足工業(yè)應(yīng)用需求。在加熱坩堝31的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置有豎向的進(jìn)料通道35,以用于從外部將原料加入至坩堝31的內(nèi)部。

[0044]通過(guò)在真空感應(yīng)爐的坩堝31外側(cè)壁上,沿豎直方向排列套設(shè)至少兩個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1,并在真空感應(yīng)爐的外部,對(duì)應(yīng)于每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1均設(shè)置相應(yīng)的獨(dú)立的控制電源柜2,獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1的電源接頭與相應(yīng)的控制電源柜2的出線端連接,從而共同組成一個(gè)總電源,可滿足真空感應(yīng)爐大功率電源的需求,有效解決了現(xiàn)有技術(shù)中,因電源電壓過(guò)高而發(fā)生真空電暈放電的問(wèn)題;能夠滿足感應(yīng)線圈銅管的電流限流的技術(shù)要求;并且在安裝和拆除時(shí)可分別從真空感應(yīng)爐中吊出獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu),便于安裝、拆卸和檢修;還可根據(jù)加熱工藝要求,通過(guò)控制電源柜對(duì)相應(yīng)的獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)進(jìn)行獨(dú)立控制,從而優(yōu)化加熱工藝。

[0045]作為本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選方案,在真空感應(yīng)爐的坩堝31外側(cè)壁上,沿豎直方向排列套設(shè)至少兩個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1,包括:

[0046]根據(jù)坩堝31的加熱位置面積和預(yù)設(shè)真空電壓限值,設(shè)計(jì)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1在坩堝31外側(cè)壁上的布設(shè)方案;其中,布設(shè)方案包括獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1的數(shù)量和每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1在坩堝31外側(cè)壁上的位置;

[0047]根據(jù)所述布設(shè)方案,由上至下依次將獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1排列設(shè)置在坩堝31外側(cè)壁上。

[0048]具體的,根據(jù)坩堝31的加熱位置面積和預(yù)設(shè)真空電壓限值(根據(jù)實(shí)際情況確定具體值),確定出獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1的數(shù)量和不同的獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1在坩堝31外側(cè)壁上的位置,然后根據(jù)該布設(shè)方案,在坩堝31的加熱位置由上至下依次將獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1排列設(shè)置在坩堝31外側(cè)壁上。

[0049]作為本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選方案,獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1包括一個(gè)單體IGBT或至少兩個(gè)并聯(lián)的單體IGBT或至少兩個(gè)串聯(lián)的單體IGBT。

[0050]具體的,本發(fā)明中的單體IGBT指的是IGBT高頻感應(yīng)加熱模塊,其單體結(jié)構(gòu)為現(xiàn)有技術(shù)中的成熟應(yīng)用,在本發(fā)明中,可將一個(gè)單體IGBT作為獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1,也可由多個(gè)單體IGBT通過(guò)串聯(lián)或并聯(lián)后作為獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1,對(duì)此本發(fā)明不做特別限定。

[0051]作為本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選方案,獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1包括一個(gè)可控硅真空電源感應(yīng)線圈或至少兩個(gè)并聯(lián)的可控硅真空電源感應(yīng)線圈或至少兩個(gè)串聯(lián)的可控硅真空電源感應(yīng)線圈。

[0052]具體的,單個(gè)的可控硅真空電源感應(yīng)線圈為現(xiàn)有技術(shù)中的成熟應(yīng)用,在本發(fā)明中可將一個(gè)可控硅真空電源感應(yīng)線圈作為獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1,也可由多個(gè)可控硅真空電源感應(yīng)線圈通過(guò)串聯(lián)或并聯(lián)后作為獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1,對(duì)此本發(fā)明不做特別限定。

[0053]需要說(shuō)明的是:無(wú)論獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1為單體IGBT或可控硅真空電源感應(yīng)線圈,亦或者為單體IGBT與可控硅真空電源感應(yīng)線圈組合,對(duì)于不同的獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1,其具體的單體IGBT或可控硅真空電源感應(yīng)線圈的構(gòu)成數(shù)量、連接方式以及功率均可不同也可相同,并且獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1的數(shù)量可根據(jù)實(shí)際需要確定,對(duì)此本發(fā)明不做特別限定,如圖2和圖3所示,在圖2中,每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1包括的單體IGBT或可控硅真空電源感應(yīng)線圈數(shù)量相同,在圖3中,獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1包括的單體IGBT或可控硅真空電源感應(yīng)線圈數(shù)量存在不同。

[0054]作為本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選方案,在可控硅真空電源感應(yīng)線圈的外部設(shè)置有磁軛。

[0055]具體的,在感應(yīng)線圈外可加裝相應(yīng)磁軛,以防止感應(yīng)線圈漏磁造成人員傷害和功率的無(wú)功損失。

[0056]作為本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選方案,當(dāng)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1包括至少兩個(gè)并聯(lián)的可控硅真空電源感應(yīng)線圈或至少兩個(gè)串聯(lián)的可控硅真空電源感應(yīng)線圈時(shí),每個(gè)可控硅真空電源感應(yīng)線圈到相應(yīng)的控制電源柜的輸出阻抗相同。

[0057]具體的,各個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1到相應(yīng)的感應(yīng)線圈的輸出阻抗相同或相近,以使獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1對(duì)坩堝31加熱均勻。

[0058]作為本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選方案,將排列設(shè)置在坩堝31外側(cè)壁上的每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1的電源接頭引出至真空感應(yīng)爐的真空空間32外部,包括:

[0059]將每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1的接頭作為電源接頭由真空感應(yīng)爐的真空密封法蘭板引出至真空感應(yīng)爐的真空空間32外部。

[0060]作為本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選方案,將排列設(shè)置在坩堝31外側(cè)壁上的每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1的電源接頭引出至真空感應(yīng)爐的真空空間32外部,包括:

[0061]將每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1的接頭與水冷電纜4的一端連接,并將水冷電纜4的另一端作為電源接頭;

[0062]將電源接頭由真空感應(yīng)爐的真空密封法蘭板引出至真空感應(yīng)爐的真空空間32外部。

[0063]具體的,各獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1可直接接到真空罐33壁上的真空密封法蘭板上引出到大氣下的真空罐33外,或通過(guò)水冷電纜4接到真空罐33側(cè)壁上的真空密封法蘭板上引出到大氣下的真空罐33外,兩種方式均可,對(duì)此本發(fā)明不做特別限定。

[0064]作為本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選方案,在對(duì)應(yīng)于每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1均設(shè)置相應(yīng)的控制電源柜2的過(guò)程中,

[0065]每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1對(duì)應(yīng)一個(gè)相應(yīng)的控制電源柜2;

[0066]控制電源柜2包括柜體和設(shè)置在柜體內(nèi)部的變壓器21、整流器22、以及逆變器23;其中,變壓器21與輸電線5連接,整流器22與變壓器21連接,在整流器22與變壓器21之間設(shè)置有開(kāi)關(guān)24,逆變器23與整流器22連接,在逆變器23的輸出側(cè)連接有出線端。

[0067]具體的,本發(fā)明中的上述控制電源柜2為基礎(chǔ)的電源柜結(jié)構(gòu),每個(gè)控制電源柜2可單獨(dú)控制相應(yīng)的獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1。

[0068]本發(fā)明提供的真空感應(yīng)爐的加熱方法,采用本發(fā)明如上的真空感應(yīng)爐電源配置方法對(duì)真空感應(yīng)爐的加熱位置進(jìn)行加熱電源配置,并基于預(yù)設(shè)加熱工藝要求,通過(guò)控制電源柜2對(duì)相應(yīng)的獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)1進(jìn)行獨(dú)立控制,直至完成真空感應(yīng)爐的加熱工藝。

[0069]通過(guò)上述具體實(shí)施方式可看出,本發(fā)明提供的真空感應(yīng)爐電源配置方法及加熱方法,通過(guò)在真空感應(yīng)爐的坩堝外側(cè)壁上,沿豎直方向排列套設(shè)至少兩個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu),并在真空感應(yīng)爐的外部,對(duì)應(yīng)于每個(gè)獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)均設(shè)置相應(yīng)的獨(dú)立的控制電源柜,獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)的電源接頭與相應(yīng)的控制電源柜的出線端連接,從而共同組成一個(gè)總電源,可滿足真空感應(yīng)爐大功率電源的需求,有效解決了現(xiàn)有技術(shù)中,因電源電壓過(guò)高而發(fā)生真空電暈放電的問(wèn)題;能夠滿足感應(yīng)線圈銅管的電流限流的技術(shù)要求;并且在安裝和拆除時(shí)可分別從真空感應(yīng)爐中吊出獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu),便于安裝、拆卸和檢修;還可根據(jù)加熱工藝要求,通過(guò)控制電源柜對(duì)相應(yīng)的獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)進(jìn)行獨(dú)立控制,從而優(yōu)化加熱工藝。

[0070]如上參照附圖以示例的方式描述了根據(jù)本發(fā)明提出的真空感應(yīng)爐電源配置方法及加熱方法。但是,本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解,對(duì)于上述本發(fā)明所提出的真空感應(yīng)爐電源配置方法及加熱方法,還可以在不脫離本發(fā)明內(nèi)容的基礎(chǔ)上做出各種改進(jìn)。因此,本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)由所附的權(quán)利要求書(shū)的內(nèi)容確定。

說(shuō)明書(shū)附圖(4)

聲明:
“真空感應(yīng)爐電源配置方法及加熱方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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