本發(fā)明涉及地質(zhì)勘探技術(shù)領(lǐng)域,本發(fā)明公開了一種用于地質(zhì)勘測(cè)的方位勘測(cè)裝置,包括鉆探支座、定位中心盤、標(biāo)記環(huán)、方位環(huán)、延伸連接機(jī)構(gòu)、轉(zhuǎn)動(dòng)環(huán)、收卷機(jī)構(gòu),所述鉆探支座與所述定位中心盤組成勘測(cè)平臺(tái),所述定位中心盤與所述標(biāo)記環(huán)、所述方位環(huán)組成反應(yīng)平臺(tái),所述延伸連接機(jī)構(gòu)、所述轉(zhuǎn)動(dòng)環(huán)、所述收卷機(jī)構(gòu)組成執(zhí)行連接組件;利用延伸連接機(jī)構(gòu)將取樣鉆頭的頂部與方位環(huán)連接,此時(shí)取樣鉆頭在深入時(shí),鉆頭與方位環(huán)發(fā)生相對(duì)位移,此時(shí)延伸連接機(jī)構(gòu)受到延伸影響后,產(chǎn)生彈力,當(dāng)取樣鉆頭發(fā)生傾斜時(shí),此時(shí)取樣鉆頭的各個(gè)點(diǎn)位與方位環(huán)的間距發(fā)生變化,此變化受到彈力影響后,使方位環(huán)會(huì)隨著取樣鉆頭的偏移發(fā)生偏移,對(duì)下方鉆頭的傾斜情況進(jìn)行表現(xiàn)。
聲明:
“用于地質(zhì)勘測(cè)的方位勘測(cè)裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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