本發(fā)明公開了一種水平井地質(zhì)導(dǎo)向中變方位條件下靶點(diǎn)預(yù)測(cè)方法,通過識(shí)別入靶前巖電標(biāo)志層,分別計(jì)算出各標(biāo)志層距離水平段靶窗中心線垂直距離;根據(jù)實(shí)鉆兩標(biāo)志層垂深差、平面距離及鄰井或?qū)а劬畠蓸?biāo)志層間垂厚計(jì)算地層視傾角;讀取任意兩層標(biāo)志層的平面位置點(diǎn),連接兩層標(biāo)志層的平面位置點(diǎn)并延長(zhǎng),與靶點(diǎn)位置構(gòu)造的等值線相交作為靶點(diǎn)等效位置,測(cè)量其中一層標(biāo)志層的平面位置點(diǎn)與等效靶點(diǎn)的直線距離;基于等厚地質(zhì)模型,利用選取的標(biāo)志層平面位置點(diǎn)垂深、地層視傾角、相交交點(diǎn)與選取的平面位置點(diǎn)的平面距離,完成對(duì)靶點(diǎn)垂深的預(yù)測(cè)。通過本發(fā)明,能夠提高靶點(diǎn)預(yù)測(cè)精度,同時(shí)有效改善水平井井眼平滑度,為后續(xù)的水平井精確著陸及水平段控制提供了保障。
聲明:
“用于水平井地質(zhì)導(dǎo)向中變方位條件下靶點(diǎn)預(yù)測(cè)方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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