本發(fā)明涉及涉及一種低硼低磷冶金硅的生產(chǎn)工藝。其技術方案是:選擇SiO2>99%、B<10ppmw、P<5ppmw的硅石,破碎粒度至50~120mm,經(jīng)水洗凈,晾干作為原料硅;選擇石油焦作為還原劑;復合添加劑按重量百分比為:CaF60~65%∶CaO22~26%∶Na2SiO37~11%,混合均勻;按照復合添加劑∶還原劑∶硅石=1∶4∶10的重量比分別稱重,進行混合,投入礦熱爐內,在2000℃~2400℃下熔煉4~5.5小時,中間每隔1.5~2小時停止加熱,搗爐3次;將礦熱爐中非硅物質與熔融的冶金硅液一同排出,注入硅水包內,進行吹氧操作,緩慢增加氣壓,使液態(tài)硅混合物達到沸騰狀態(tài)即可,持續(xù)35~50分鐘;經(jīng)除渣、定向凝固,得到高品質的冶金硅。
聲明:
“低硼低磷冶金硅的生產(chǎn)工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)