本發(fā)明公開了一種用于冶金裝置的底吹式噴槍的噴嘴裝置及其應用,該噴嘴裝置包括噴嘴體和至少一條第一通道,第一通道設(shè)計用于引導所述含氧氣體流向噴嘴體的輸出端,至少一條第一通道是以至少逐段彎曲的或螺旋的方式軸向延伸地貫穿噴嘴體,該第一通道延伸至噴嘴體的輸出端形成噴射孔,含氧氣體通過所述噴射孔離開噴嘴裝置進入冶金裝置中。該噴嘴裝置噴射的含氧氣體以不同方向離開噴嘴,使得每個噴射孔自成旋流反應區(qū),加大了反應面積,提高了含氧空氣的利用率,提高熔池攪拌效果,顯著改善熔池內(nèi)的化學反應的動力學條件。
聲明:
“用于冶金裝置的底吹式噴槍的噴嘴裝置及其應用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)