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測量痕量金屬離子濃度的方法和裝置

1022   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 14:35:03
本發(fā)明提供了一種測量痕量金屬離子濃度的方法和裝置,該方法包括:S1,根據(jù)包含痕量金屬離子的溶液在全波段的吸光度,使用預(yù)測均方根誤差獲取所述全波段內(nèi)的最優(yōu)波長區(qū)間;S2,通過相關(guān)系數(shù)法獲取所述最優(yōu)波長區(qū)間內(nèi)測量所述痕量金屬離子濃度的有效波長點。通過采用間隔?相關(guān)系數(shù)偏最小二乘法,快速高效地去除高濃度基體離子的敏感區(qū)域和空白信息區(qū)域,剔除非線性強、信息量少、被基體離子掩蔽的波長點,最大程度地保留痕量待測離子完整可用的信息,減小高濃度基體離子對痕量待測離子的干擾,同時保持待測離子的靈敏度,減少變量個數(shù),提高模型的精度和實時性。
聲明:
“測量痕量金屬離子濃度的方法和裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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