雙層輝光離子滲金屬爐,屬表面冶金設(shè)備或真空 氣體放電熱處理設(shè)備范疇。 本發(fā)明的主要目的是使我國學(xué)者創(chuàng)造的雙層輝 光離子滲金屬技術(shù)付諸實施,應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)。其主 要特征是在該設(shè)備的真空室內(nèi)設(shè)有由欲滲合金元素 組成的源極、陰極(工件)和作為陽極的隔熱層;源極 及陰極分別配備帶有滅弧裝置的調(diào)壓范圍為0至 1000伏的直流電源;輔助交流電阻加熱裝置及并聯(lián) 雙回路的抽真空系統(tǒng)。工件經(jīng)該設(shè)備進行離子滲金 屬處理后可形成包含各種合金元素的合金擴散層。
聲明:
“雙層輝光離子滲金屬爐” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)