本實(shí)用新型涉及一種惰性氣氛下真空高溫爐裝置,包括密封室、物料倉和放空系統(tǒng),密封室設(shè)有密封門。密封室內(nèi)設(shè)有真空高溫爐、進(jìn)料器、
真空泵、成品儲罐和惰性氣體控制器。真空高溫爐與進(jìn)料器、真空泵和成品儲罐管路連接。密封室為全密閉結(jié)構(gòu),設(shè)有密封玻璃窗,密封室內(nèi)填充惰性保護(hù)氣體,惰性氣體控制器控制惰性氣體的濃度和壓力。真空高溫爐為立式或臥式加熱爐,真空高溫爐的兩頭有密封蓋,外部為鋼殼結(jié)構(gòu),真空高溫爐的爐體內(nèi)部砌筑耐火材料。物料倉通過輸送設(shè)備連接到進(jìn)料器,真空泵與放空系統(tǒng)連接。本實(shí)用新型可在高溫和惰性氣體的保護(hù)下,用煤粉作還原劑還原生產(chǎn)冶金硅,避免設(shè)備和產(chǎn)品的氧化燒蝕,降低冶金硅的生產(chǎn)成本。
聲明:
“惰性氣氛下真空高溫爐裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)