本發(fā)明涉及一種加熱?純氫還原冷卻系統和方法,屬于冶金過程中的豎爐還原技術領域,解決了現有技術中氫氣利用率低的問題。該加熱?純氫還原冷卻系統包括自上而下依次連通設置的加熱段、等壓段和還原冷卻段;所述加熱段設置有氧化球團入口、熱煙氣入口和煙氣出口,來自所述氧化球團入口的氧化球團與來自所述熱煙氣入口的熱煙氣在所述加熱段中進行接觸,接觸后的煙氣從所述煙氣出口排出,接觸后的氧化球團進入所述等壓段;所述還原冷卻段設置有氫氣入口和氣體出口,來自所述等壓段中的氧化球團與來自所述氫氣入口的氫氣在所述還原冷卻段中進行還原和冷卻,所述還原和冷卻過程產生的氣體從所述氣體出口排出。本發(fā)明提高氫氣利用率。
聲明:
“加熱-純氫還原冷卻系統和方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯系該技術所有人。
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