本發(fā)明公開(kāi)了一種厚度為21.5μm的TiN膜制備方法,利用真空電弧離子鍍技術(shù)制備了厚度為21.5μm的TiN膜層,通過(guò)對(duì)電弧離子鍍技術(shù)中工藝參數(shù)的選擇性調(diào)整、工藝方法的合理設(shè)計(jì),在
粉末冶金材料GT35上通過(guò)克服材料變形、膜層內(nèi)應(yīng)力集中、膜層在銳邊夾角容易崩落、長(zhǎng)時(shí)間沉積厚膜等的種種難題,解決了TiN硬質(zhì)膜厚度在8μm以上無(wú)法制備的現(xiàn)狀,得到了膜層厚度、硬度、結(jié)合力等性能均優(yōu)良的TiN厚膜。本發(fā)明能為航天技術(shù)領(lǐng)域中半球動(dòng)壓馬達(dá)零件-球碗需要鍍TiN厚膜的設(shè)計(jì)要求提供生產(chǎn)技術(shù)支持。對(duì)航天技術(shù)的發(fā)展有非常好的實(shí)用價(jià)值和市場(chǎng)應(yīng)用前景。
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“厚度為21.5μm的TiN膜制備方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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