本發(fā)明公開了一種地質(zhì)環(huán)境監(jiān)測裝置,包括機(jī)架、激光組件、施壓組件、反射組件和測量組件;反射組件、機(jī)架和測量組件排成一線,反射組件和測量組件分別位于機(jī)架兩側(cè);反射組件包括反射支架和安裝在反射支架上的反射板,測量組件包括測量支架和安裝在測量支架上的測量板,測量板的表面設(shè)置有刻度;激光組件安裝在機(jī)架上,激光組件射出的激光經(jīng)過反射板反射至測量板上;施壓組件安裝在機(jī)架上并對機(jī)架施加向下的壓力,壓力使得機(jī)架所在的土地加速沉降;當(dāng)機(jī)架隨著地面沉降之后,激光組件經(jīng)過反射板反射至測量板上的光點(diǎn)也會發(fā)生位置變化,通過光點(diǎn)的位置變量可以計(jì)算出地面的下降量,整個測量操作方便且誤差小。
聲明:
“地質(zhì)環(huán)境監(jiān)測裝置及其監(jiān)測方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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