本發(fā)明公開了一種高純銦制備裝置,涉及
有色金屬冶金技術(shù)領(lǐng)域。包括電解槽支架,電解槽支架上設(shè)有多個電解槽,在電解槽的一端設(shè)有電解循環(huán)系統(tǒng),電解循環(huán)系統(tǒng)與電解槽連接,電解循環(huán)系統(tǒng)設(shè)有PH檢測傳感器;在電解槽的另一端設(shè)有電氣控制及監(jiān)控系統(tǒng)和電源單元,電源單元為IGBT直流電源或硅整流直流電源的任一種,具備恒壓/恒流雙模式輸出及遠程智能控制等功能,控制及顯示精度≥0.1V/A;電氣控制及監(jiān)控系統(tǒng)和電源單元均與電解槽電連接,電解槽的上方設(shè)有氣體收集單元。本發(fā)明可以解決現(xiàn)有技術(shù)存在生產(chǎn)過程工藝控制難度高,產(chǎn)品質(zhì)量波動較大,生產(chǎn)環(huán)境惡劣,無法生產(chǎn)出合格穩(wěn)定的產(chǎn)品的問題。
聲明:
“高純銦制備裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)