本發(fā)明涉及一種高純鎢靶材的制備方法,屬于難熔金屬制備特種技術(shù)領(lǐng)域。所述方法利用化學(xué)氣相沉積通過控制核心參數(shù)制備高純鎢板,進(jìn)一步采用高溫軋制和熱處理再結(jié)晶進(jìn)行加工,最后通過機(jī)械加工后與背板焊接得到高純鎢靶。所述方法制備出的鎢靶材純度高達(dá)99.9999%以上,較利用
粉末冶金制備出的鎢靶材相比純度更高,雜質(zhì)更少,這使得在磁控濺射中,有效避免了鎢靶材在電子轟擊作用下內(nèi)部雜質(zhì)元素被轉(zhuǎn)移到終端產(chǎn)品上,可大幅度提高終端產(chǎn)品的良率。
聲明:
“高純鎢靶材的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)