本實(shí)用新型公開了一種金屬釩真空還原制備裝置,涉及金屬還原制備器械領(lǐng)域,針對目前的真空還原設(shè)備對待還原的金屬進(jìn)行還原反應(yīng)時(shí),由于待還原的金屬與還原劑沒有充分混合,導(dǎo)致其反應(yīng)過程較為長久的問題,現(xiàn)提出如下方案,其包括底座,所述底座頂端一側(cè)固定安裝有真空還原機(jī)箱,且所述真空還原機(jī)箱一側(cè)設(shè)置有
真空泵,所述真空泵通過管道與真空還原機(jī)箱固定連接,且所述真空泵固定安裝于底座頂端遠(yuǎn)離真空還原機(jī)箱的一端。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)新穎,且該裝置不僅能夠控制待還原金屬與還原劑的比例,還能夠?qū)⒋€原金屬與還原劑進(jìn)行混合,提高在真空還原機(jī)箱中的反應(yīng)效率,解決了目前的真空還原設(shè)備還原效率低的問題。
聲明:
“金屬釩真空還原制備裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)