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覆銅陶瓷基板的活性金屬層的蝕刻液及其刻蝕方法

825   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 15:02:02
本發(fā)明公開(kāi)了一種覆銅陶瓷基板的活性金屬層的蝕刻液及其刻蝕方法。一種陶瓷覆銅基板的活性金屬反應(yīng)層的蝕刻液,由以下質(zhì)量百分比的組分組成;5%?15%H2O2、3%?5%NaOH、1%?3%M、3%?5%N,余量為純水;M為羥基乙叉二膦酸、氨基三甲叉膦酸、乙二胺四甲叉膦酸、乙二胺四甲叉膦酸鈉、2?膦酸丁烷?1,2,4三羧酸、二乙烯三胺五甲叉膦酸、2?羥基膦酰基乙酸、硫酸鎂或硫酸鎂的水合鹽中的至少一種。上述蝕刻液針對(duì)于無(wú)銀工藝焊料的含鈦、鉿、鋯等活性金屬與陶瓷形成的活性金屬反應(yīng)層,具備高針對(duì)性,溶液穩(wěn)定性高、對(duì)溫度不敏感、蝕刻效率高。
聲明:
“覆銅陶瓷基板的活性金屬層的蝕刻液及其刻蝕方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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