本發(fā)明公開了一種多孔
氧化鋁膜層及其制備方法。該多孔氧化鋁膜層的孔徑范圍為5?100nm,厚度為5?100μm。其制備方法包括以下步驟:(1)采用物理氣相沉積方法在多孔金屬基材表面沉積鋁膜;(2)對鋁膜進(jìn)行氣氛退火處理;(3)對退火后的鋁膜進(jìn)行表面清洗和
電化學(xué)拋光;(4)利用陽極氧化法對鋁膜進(jìn)行處理,獲得多孔氧化鋁膜。采用本發(fā)明的方法制備的多孔氧化鋁膜層具有膜層孔徑可控的特點(diǎn),膜層內(nèi)具有規(guī)則有序分布的垂直納米通孔。
聲明:
“多孔氧化鋁膜層及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)